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光刻机_雕刻机_曝光系统

国际上光刻机哪家最强,中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

镜头光学到六镜头光学系统差距如前文所述,德国蔡司2003年推出两镜头EUV光学系统后,3年内推出了六镜头的ADT验证机

所以,蔡司的MET光学并非欧洲的光学制造能力的上限,而长春光机所的MET曝光工具则是在采购了欧洲先进制造工具、设计工具基础之上,几乎代表了中国当时在EUV研发上的能力上限

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王丽萍研究生在读时,于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文,涉及两镜头微缩投影系统:《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》

王丽萍2007年发表论文在这篇论文中,给出了一套MET工具的光学设计图,其数值孔径NA0.3,分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm

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更令人注意的是一项2018年1月至2021年9月的新项目:六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09王丽萍教授的极紫外光刻研究活动值得注意的是,与上述六镜极紫外光刻投影物镜开发项目同时同期开展的,还有一个国家项目“极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关”

所以如果有人解读中国已经有每小时曝光10-20晶圆的EUV原型机,它大概率是把DUV当作了EUV

第二代MET工具通常命名为MET-5,它经常出现在我的帖子

美国加州劳伦斯伯克利实验室的MET-5极紫外曝光系统国内关于长春光机所的MET资料有限,我们不妨拿2005年的美国加州劳伦斯伯克利实验室的MET工具的性能做一个参照

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中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

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国际上光刻机哪家最强

2017年长春光机所的2镜头MET曝光工具验收,获得32纳米线宽曝光图形年后,2017年02专项验收时,我们可以看到,其验收的两镜头MET曝光工具,获得32纳米线宽曝光图形,与2007年王丽萍教授的论文设计几乎是一致的

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