CINNO Research半导体事业部总经理Elvis Hsu在接受观察者网采访时表示，光刻机是半导体制造设备价格占比最高的部分约25-30%，其研发难点在于曝光光源、对准系统和透光镜头等技术的整合，以及庞大资金投入
纵观全年，即使考虑到目前6个EUV系统的快速出货相关收入将转移至2023年，该公司2022年的营收增长仍将达20%左右
因为既然是快速出货，理论上应该也是快速或准时付款，但现在阿斯麦快速出货却被延迟付款，怎么解释都显得很奇怪
而阿斯麦方面也预计柏林火灾不会对其2022年的系统出货产生重大影响
从2018年开始，阿斯麦就试图向中国大陆销售EUV光刻机，希望进一步进入中国大陆市场，但荷兰政府一直未批准其出口许可申请
读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。
目前，台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机，而第一代0.55 NA光刻机TWINSCAN EXE：5000还在研发过程中，预计2023年上市
早在2018年，英特尔就率先向阿斯麦下单第一代0.55 NA EUV光刻机，该公司也有望成为首个0.55 NA EUV光刻机的使用者，并将其用于3nm及以下制程
阿斯麦光刻机出货信息 过去几年，阿斯麦一直在研发高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻机
这种EUV光刻机采用最新的光学设计，具有更高的分辨率（由13nm升级到8nm），可以使芯片面积缩小1.7倍，晶体管密度增加2.9倍
但也别那么绝对
国产光刻机技术发展
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