至于佳能，尼康，则主要集中在最低端的还有UV（i-line）光刻机领域，在次高端的DUV领域，都表现一般
至于国产光刻机，虽然可以用于90nm，但其实晶圆厂们用得非常少，并且主要不是用于前道，也就是晶圆制造这一块，更多是用于后道，比如封测等领域
稳定性能：很好 读盘速度：很好 外形外观：很好 轻薄程度：很好 读盘声音：很好 产品包装：很好
读盘速度：读盘速度挺快的，稳定性很好 读盘声音：目前感觉声音比较正常，算是比较安静的 稳定性能：性能稳定不会飞盘 轻薄程度：普通的标准大小吧 外形外观：整体外观密闭性挺好，材质看着也很不错 产品包装：包装设计觉为艺术规范很结实
原来一直用的三星刻录机，用了几年了，不行了，刻不出来了。换了这个，之前发现有不少差评，有些犹豫。换了以后，发现速度快，声音很小，性价比超高。值得购买。
当然，目前全球也在研发其它技术的光刻机，比如多电子束直写光刻机（MEB）、定向自组装技术（DSA）、nm压印技术（NIL）等不同新技术也，希望这些技术有所突破，那么我们就不必依赖ASML了，否则真的太难超越它了
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众所周知，目前所有的芯片制造，均要经过光刻这么一个工艺，所以光刻机是必不可少的半导体设备
而光刻机与芯片的工艺是相对应的，比如EUV光刻机用于7nm及以下，DUV光刻机用于7-180nm
还有UV（i-line）光刻机，主要用于0.35um工艺
ArF占88%
其中ASML是最牛的， 特别是EUV光刻机，仅ASML一家厂商能制，可以说ASML卡住了全球先进晶圆厂的脖子
但事实上，除了EUV光刻外，ASML在DUV领域的光刻机，也是一顶一的，全球没有对手
如上图所示，这是机构统计的2021年全球半导体前道光刻机销售情况表，上面列出了3大巨头，在各种光刻机上面的销售数据
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数据显示，全球一共售出478台前道光刻机，被ASML、尼康、佳能瓜分了
其中ASML拿下了其中的309台，占比为65%，接近三分之二的市场
而尼康为6%，佳能为29%
但是在高端EUV光刻机领域，ASML占据了100%的市场，而在次高端的在ArFi和ArF光刻机领域，也分别占据96%和88%的市场
激光直写光刻机最高精度
外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。