秒懂百科光刻机
当初我们原子弹制造是从0到1的跨越，万丈高楼平地起，而光刻机要说，其实是从1到2的进程，只是目前我们没有办法研制高端光刻机，因此我们要做的，就是将高端技术走向高精端，只是这个过程并不容易了
可是目前我们所能够知道的，高端的光刻机，比原子弹要极为稀有，这是不得不面对的事实
为什么这样说呢？在时间的推移下，拥有核武器，能够制造出核武器的国家已经达到9个之多，五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个，而全球的核弹数量相加，更是一个庞大的数字
毕竟光刻机本就不是一个国家能独立建造的东西，是依靠着全球产业链的支持，进行供应而成
EUV多层膜反射镜是光学系统当中重要的元件，有了这个反射镜的存在，才能够时间EUV波段的高反射率，且精度要求是非常高，精度越高的东西越难造，显然这个反射镜就不是一个容易造的
3、工作台在芯片制造当中，需要工作台进行配合，而在芯片制造当中，工作台移动来帮助芯片的纹路刻蚀，因此工作台移动的精度越高，那么制作出来的芯片精度也就越高
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光驱的声音很小，质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好，双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。光驱的声音很小，质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好，双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。
那么将这个极限制造出来的光刻机，有多难非常明显了，而每一纳米的突破，都是极其难得，阿斯麦尔温彼得甚至还表示，中国不太可能独立造出顶尖光刻机
要说最难的就是这3个点了
1、光源我们知道，目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了，而其使用的就是极紫外线，能够将光刻技术扩展到32nm以下
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然而在EUV光刻机面世之前，一直都是使用的DUV光刻机，使用的是短波紫外线，突破到极紫外线，一共花费了20年的时间才完成，可见对于光源的选择使用，其的难度是非常大的，没有捷径可走
2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具，然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术
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