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光刻机_雕刻机_曝光系统

研发出EUV光刻机,光刻机的核心组件

发出EUV光刻机

研发出EUV光刻机,光刻机的核心组件

光刻机的核心组件

很好,已经第二次购买,能写入dvd-ram,数据安全有保障。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机质量非常好 值得信赖 好评五星

到货几天了,在用这款writer,感觉还不错,已经刻了一张,性能不错,而且方便携带,包装还好,物美价廉的好商品

新开办公司,之前配置过四台,这一次配了一台全是办公高配的,物流快,发票齐全,自己组装价格质量也还放心,希望京东无假货!上个全图吧。组装花了两小时。一次点亮

这家的先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机 支持BDXL刻录/ BDR-S12XLB的真是太好用了,用了第一次就还想再用一次。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机 支持BDXL刻录/ BDR-S12XLB包装不错,很严密,产品样数和下单一样,送的东西也很满意。五星好评!非常好,非常好好用,舒服,评个五星,发货快一天就到了

目前网络有一种声音,那就是我们必须自研出EUV光刻机,只要自研出EUV光刻机,ASML和美国就卡不住我们的脖子了,芯片就再也不用愁了

真的自研出EUV光刻机,我们就能够制造出7nm芯片了么?在我看来,仅靠EUV光刻机,是远远不够的,还差得远呢

还有一些材料,也需要达到7nm,比如光刻胶,7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶,但我们自给率为0

后道工序,这里主要涉及到的是封测,相对要求会低一些,但也是有工艺精度要求的

目前仅是EUV光刻机卡得最为明显,卡得最为关键,最为大家所知而已,并不意味着其它设备或材料不卡了,一旦EUV光刻机我们有了,美国在其它设备或材料上就会卡住我们的

而前道工序更是重点,有至少8个工序,分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀离子注入、CMP抛光、金属化、测试

而这里也要用到各种设备,众多的材料,光刻机只是其中的一种设备,这些设备大多和光刻机一样,是有精度要求的,分别要求达到7nm

外包装没有温謦提示封条。读盘还快,刻录dvd光盘5分多就刻好了。包装完整安装方便,装好以后读盘速度很快,很不错的一个光驱,值得购买

办公需要刻录光盘做数据保存,这款读盘能力很强,速度很快,震动不大,有轻微的声音,日常使用基本上不会察觉到;刻录写入时比18x的要快不少,过程很稳定,不会出现数据错误或者写完读不出的情况,购买时还赠送sata数据线,很方便。

按照机构的数据,2022年28nm及以下的芯片占全球所有芯片的比例还高达75%+,所以我们现在的重点不是先进工艺,而是全产业国产化率,同时提升产能,先满足国内成熟工艺的需求,先解决了这些问题,再向先进工艺前进,这样才走得稳健

综合起来看,要想芯片制造水平达到7nm,需要EDA支持7nm,半导体材料也是支持7nm,半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备,就算我们突破了,美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们,因为目前国产的半导体材料、半导体设备,很多在28nm甚至更成熟的工艺,达到7nm的少之又少

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