ASML 光刻系统的发展一直是通过减少波长和增加数值孔径来进行演进
目前，ASML 的主力产品是 0.33NA EUV 光刻机，并正在大批量生产中
对于 0.33 NA 系统，ASML 正致力于通过增加吞吐量和降低总能量来减少每次曝光所需的能量
荷兰精密光刻机
三星方面，据韩媒 Business Korea 报道，李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时，拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管，广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应，并取得“额外”的 EUV 光刻机设备
用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构
日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展
根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现
芯片厂商打响“2nm 工艺战”
其中，有 9 台 EUV 光刻机在今年一季度售出，与去年四季度售出 12 台 EUV 光刻机相比，环比减少 25%
数据显示，ASML 去年共售出 42 台 EUV 光刻机
根据 ASML 今年稍早前发布的 2021 年第四季度和全年财报，ASML 去年的 EUV 光刻机销售额为 63 亿欧元（约合 447 亿元人民币）
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而从工艺技术和制造成本综合因素考量，EUV 光刻机（极紫外光刻）被普遍认为是 7nm 及以下工艺节点的最佳选择
目前，在全球范围内仅有荷兰的 ASML 公司能供应 EUV 光刻机
据介绍，ASML 的 EUV 光刻技术使用 13.5 nm 的波长（几乎是 X 射线范围），在微芯片上形成精细的线条
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