而基于0.55NA数值孔径的光刻机，光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍，其处理晶圆的能力是每小时处理220片12寸晶圆左右，真正用于制造3nm以下的芯片
至于买家，当然只有台积电、三星、英特尔三家才有资格购买，其它的晶圆厂，能够买到0.33NA的EUV光刻机，就已经非常不错了，不要想这种0.55NA的
老牌子，收到货后就装机了，和主机很匹配，办公用方便，主要用于看资料和刻资料盘。 然后试用了一下，运行速度快，安静。 先锋刻录机真的很不错，价格也实惠。 产品包装的很好，比较满意，有需要的值得购买！尤其办公使用，很好。
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光刻机蔡司镜头的技术含量
用于2nm
一小时处理220片12寸的晶圆，其产能有多大？如果是苹果A16这样的芯片，一块晶圆可以切割600块左右，理论上一台这样的光刻机，一年可以就光刻10亿颗以上……至于价格方面，ASML表示，其0.55NA的下一代EUV光刻机单价将达到3亿多美元（约合20亿元人民币）
我的外置刻录机坏了，买这个来更换，感觉还可以吧。毕竟才几十块钱。一直最喜欢京东网自营商品里面的唱片，图书，每次活动都会购买一批，可以剩下很多钱，京东网自营商品让人放心，服务一流，让人满意，没有后顾之忧，正品保证！
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而要生产2nm的芯片，数值孔径要变为0.55NA，也就是解析度（精度）为8nm，这样可以更更快更好地曝光更复杂的集成电路图案，同时单次构图间距低于30nm
这种新的EUV光刻机叫做型号，就叫做EXE:5200，目前ASML已经有了规划，预计在2024年底，或者2025年交付
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众所周知，制造7nm及以下工艺的芯片，需要用到EUV光刻机，而全球仅有ASML能够生产
ASML在2015年，就推出了第一代EUV光刻机WINSCAN NXE:3400B，之后在2019年推出了NXE:3400C，2021年推出了NXE:3600D
不过据称，NXE:3600D型号的EUV光刻机，支持的工艺可能仅到3nm，如果要制造2nm的芯片，光刻精度还要提升，需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行
而光刻精度怎么提升，就是数值孔径的提升了， 前几代光刻机，比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的，解析度（精度）为13nm，单次构图间距为32nm到30nm
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Pioneer 外置光驱很好使用，兼容macOS系统，读碟声音很小。很好的一款光驱，先锋品牌质量不错，虽没有用同样给予好评！