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光刻机_雕刻机_曝光系统

上海微光刻机进展,国产90nm的光刻机

物流很快,买完第二天就到了,现在已经刻了快50张光盘,无一失败,就是不知道能用多久希望能多用几年

是正品,速度快,刻盘稳定,稳定才是王道,不会坏盘,很满意。买给客户的,对方很满意,刻录速度比较快,声音小,很实用

因为实践表示,3次曝光会导致良率大幅度下降,4、5次良率可能会低到没法想象,晶圆厂们的成本高到没法承受,不如买一台高级光刻机,成本还低一些

所以,目前国内在努力的研发28nm的光刻机,这样经过两次曝光后,可以搞定14nm,至于7nm工艺,那最好还是期待EUV光刻机,用28nm的来曝光三次,良率没法看

海微光刻机进展

光驱很好,声音不大,读盘速度快,现在用的不多了,买个备用,加上转接线,方便快捷,好用,好用,有需要再来买!牌子大,质量稳定,估计用很多年没问题!

如上图所示,这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机,只有ASML能够生产

尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机,但佳能上海微电子却还停留在90nm,只能生产低端的光刻机

而在精度方面,90nm肯定没问题的,同时经过两次曝光,可以得到45nm的芯片,三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

那么能不能四次曝光,五次曝光,将精度提升上去?事实上,在实际使用中,2次曝光就已经很厉害了,像ASML等的光刻机 ,大多也只是进行2次曝光

首先打开包装袋里边东西完好,然后物流很快,加上商品出厂日期是7月全新的,配件,赠品齐全,这次购物,我对京东各方面都很满意

上海微光刻机进展,国产90nm的光刻机

不过也有人称,光刻机所指的精度,并不是指能制造芯片的精度,光刻机可以通过多次曝光,提升分辨率的,那么问题就来了,上海微电子的90nm光刻机,最多能生产多少纳米的芯片?据资料显示,目前上海微电子的90nm的光刻机,主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路

以前台式机用的就是这个品牌的光驱,老品牌值得信赖。读写速度还不错,比较薄,也不占地方,刻录的功能还没试,应该不会差到哪里去。很满意。

本来准备装电脑上的,结果发现机箱没有光驱位,索性加一个光驱盒,拿来当外置光驱,没想到速度还挺快的,声音很小,比较安静

在东京买原装正品未拆封,好东西非常方便就开始使用了,外观也漂亮,轻薄设计金属外壳黑色烤漆,看着就喜欢。 读盘速度:正常 读盘声音:轻 稳定性能:刚刚才用,感觉蛮稳定的 轻薄程度:轻薄设计,感觉舒服 外形外观:有金属感,漂亮 产品包装:完整、原装正品未拆封

“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机,因为它必不可少,同时光刻机的好坏,精度,决定了芯片的精度、良率等等

不过大家也清楚,光刻机目前全球只有4家厂商能够生产,分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子,ASML是荷兰企业,尼康、佳能是日本企业,而上海微电子是中国企

非常好用的一款刻录机,读碟快,而且静音。马达声音很柔和,没有激烈的读盘声音。刻盘稳定。质量不错

国产90nm的光刻机

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