刻录机一直买先锋，刻盘成功率高，废盘很少，买刻录机就买先锋。这款刻录机外观简洁大气，做工很好，使用也非常好，读取刻录都很棒，还没刻过坏盘！
这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍
此前就有调侃说，一台EUV光刻系统相当于一架F22/35战机
此前Intel表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了，三星和SK海力士则尚未表态
终于收到货了，非常非常喜欢，做工精致漂亮，已经被很多人夸了，真的太开心了，已经是他家的忠实粉丝了，以后还会继续买买买的终于收到货了，非常非常喜欢，做工精致漂亮，已经被很多人夸了，真的太开心了，已经是他家的忠实粉丝了，以后还会继续买买买的
相信品牌！机子看起来很简约，耐看，用起来也非常好用！店家快递很快，包装也很好，光驱还没用呢，看着无划痕，新品应该是！等用上再看看
第二次买了，上次5个，这次又为单位上买了5个，上次买的评价比较好，读盘能力强，刻盘很稳定，国产品牌中很不错的产品，现在用光驱的时候越来越少，外置光驱价格也降了不少，有时要用的时候又找不到，常备几个以备不时之需。
你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片，但其他应用对高密度的需求同样不可小觑，因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力
Intel、台积电已下单荷兰半导体设备厂商ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备
如今的深度学习在大规模模型的爆发下，所需算力每几个月就会翻一番，但现在能效比已经成了优先级更高的指标，要想同时满足性能和算力的话，主要方法有四种：一是换一种系统级计算架构，比如DSA架构；二是充分利用3D设计，也就是我们常说的3D封装和堆叠技术；三是从晶体管架构上创新，譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等；第四个则是目前看来最快捷的一条路线，通过光刻技术的发展直接提升密度
特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用
ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术
对于High-NA EUV技术之后的技术方案，ASML正在研究降低波长，但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方，其制造和使用成本都高得惊人，且不一定能真正投入生产，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头
读盘速度：读速很快 读盘声音：一般情况下，声音较轻 稳定性能：稳定性高 轻薄程度：大小合适 外形外观：外观美观 产品包装：包装精美，质量可靠
京东购物真方便，一直购买中 读盘速度：超快，识别光盘也不错，兼容性能超好。 外形外观：黑色，自用真好，看着舒服。。 轻薄程度：小巧轻便，放在笔记本包里也正好，方便我带出去 产品包装：京东物流快，包装也好，没有损坏，给快递师傅点赞。 读盘声音：读盘声音轻，能接受。
先锋的刻录机非常好，老品牌了，以前就经常使用，质量好，价格实惠，非常满意，快递非常快！