近期光刻机巨头ASML频频向中国芯片释放善意,与此前的态度截然不同,让人摸不着头脑,直到近期它的高管发言或许能解释这一原因,中国市场已成为它最后的蛋糕了,能卖一台赚一台
一方面是光刻机的技术逐渐达到极限,继续升级已不太可能;另一方面是设备自身成本以及生产成本的激增,这就导致ASML自己都担忧这些先进光刻机未来还有多大需求,而快速发展的中国市场则可望成为台积电最后的希望
当前的EUV光刻机技术是通过将镜头放在液体里,通过液体和镜头等的多重折射最终打印出更小的结构,从而制造更先进的工艺,然而这种方式随着向更先进的工艺推进,这种方式导致光刻机日益笨重,光刻机自身的成本也因此激增,第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元,预计High-NA EUV光刻机售价将达到4亿美元
荷兰光刻机对日本的冲击
以前一直用三星,先锋也是大品牌,据说造假很厉害,信赖京东自营,这次试试。光驱对我来说是必备硬件,仁者见仁智者见智,有人习惯了U盘,某些特殊情况下,还是光驱方便。读盘速度很快,噪音也不大,做工和三星一样精细,目前用着很稳定,产品包装也比较到位。背面还有好几处防伪的刻字。很不错的一款产品。
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京东自营就是快 再说说先锋的光驱 几十年的世界品牌 我个人用了十几年了 无噪音 读盘快 解码各种光驱的格式都是ok的 值得信赖很购买
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如此情况下,这些芯片制造企业已不可能继续大规模采购EUV光刻机,对于更先进的High-NA EUV光刻机的采购也可能因此延期,毕竟市场需求不强的情况下,更先进的光刻机投资额巨大,会导致芯片制造企业承担巨大的风险
中国市场已是它最后的救命稻草
随着光刻机变得更加负责,光刻机的耗电量也在激增,业界人士指出High-NA EUV光刻机的总功耗将达到200万瓦的水平,每天耗电量将达到4.8万度电;如今台积电仅是推进至5nm工艺,它消耗的电力已占中国台湾省的8%,业界预期推进至3nm之后它消耗的电力将占中国台湾的12%
当前有能力采用价格昂贵的EUV光刻机的客户其实只有Intel、台积电和三星,它们目前推进的最先进工艺为3nm,然而台积电的3nm被指在性能参数方面远未达到预期,这已导致苹果放弃了3nm,迫使台积电进一步改良3nm工艺至N3E