2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果，展示了30nm和25nm的等线宽线距（L/S）的曝光能力，可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰
而曝光28.8纳米的独立线条，仍可以获得非常高精度的曝光图案
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2017年长春光机所的2镜头MET曝光工具验收，获得32纳米线宽曝光图形十年后，2017年02专项验收时，我们可以看到，其验收的两镜头MET曝光工具，获得32纳米线宽曝光图形，与2007年王丽萍教授的论文设计几乎是一致的
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编者按：2021年12月30日，长春光机所依托02专项极紫外光刻研究团队，在深圳国资委资助下，合作成立了一家新企业：长光集智光学科技有限公司
长春光机所研发团队持股20%，而第二大自然人股东--王丽萍教授，便是今天故事的主角
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而如果我们把2017年当作中国的两镜头EUV光学系统成型的时间节点，我们有条件在3年内完成ADT验证机吗？回答这个问题，我们首先要理清蔡司的MET工具和长春光机所的MET工具的差异：2003年蔡司的两镜头MET曝光工具的核心功能，是进行EUV的曝光能力极限的原理性论证工作；而2017年中国的两镜头MET曝光系统核心是搭建中国的EUV研究基本条件、团队
一个 6 英寸的 EUV 光掩模结语20年前，ASML的一台ADT工具，便坐落在纽约州立大学理工学院，也就是帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当时工作的单位
这套价值6500万美元的设备信息，至今仍然挂在纽约州立大学理工学院（SUNY POLY）的主页，这里曾经是世界EUV光刻技术的研发先驱
很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了
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大品牌的外置光驱，一直都用这个牌子。从前的内置光驱也是一样。主要是性能稳定，耐用。刻录光盘很少报废，速度很快。现在新电脑都很少配置光驱，买他就很方便。
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