回国之后就想着购置一台主流的台式机，平时偶尔玩玩游戏，同时需要能满足某些诸如Photoshop，Matlab等专业性的需求，无奈品牌机很少能两者兼顾，性价比也不是很高，于是萌发出自行组装的想法。趁着这次京东618活动，一次性买齐所有组件，全部是京东自营购入，主要也是看重正品及售后保障。主机的配置如下：Intel i7 8700 + 微星B360M迫击炮 + 微星GTX1650 + 威刚内存（8G*2 DDR4 3000）+ Intel 760P SSD 256G + Seagate HDD 1** + 先锋DVD光驱 + 先马机箱电源600W + 飞利浦显示屏。Intel i7 8700性能十分强劲，SSD能够使机器实现秒开，与之前笔记本的对比还是相当明显的；微星主板一如既往地可靠，迫击炮这款可谓是短小精悍，接口齐全，之所以选择GTX1650，也是兼顾成本与实际需求，虽说比不上国际3A大作特效全开，但是应付古剑三等还是绰绰有余；希捷硬盘值得信赖，2.5寸的已经入手好几块，十分便捷；先马的机箱内部空间相当大，走背线完全没问题，考虑到以后可能的升级，电源选择600W全模组，用到目前相当稳定；复古式机箱搭配Pioneer光驱，以前的光碟也完全可以应付。另外，尽管是618，各个自营店的物流速度相当快，这次的购机体验很好！很满意！
为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定
更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率
在发力 0.33 NA EUV 光刻机的同时，ASML 也在冲刺研发 0.55 NA EUV 光刻机
ASML 高 NA 系统路线图ASML 发言人向媒体介绍，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小 1.7 倍、同时密度增加 2.9 倍
电子束光刻机日本
而从工艺技术和制造成本综合因素考量，EUV 光刻机（极紫外光刻）被普遍认为是 7nm 及以下工艺节点的最佳选择
目前，在全球范围内仅有荷兰的 ASML 公司能供应 EUV 光刻机
据介绍，ASML 的 EUV 光刻技术使用 13.5 nm 的波长（几乎是 X 射线范围），在微芯片上形成精细的线条
正合适，价格也不贵，现在用刻录机的少了，市面上的刻录机良莠不齐，水货很多，质量也没有保证，考虑很久，还是不从实体店买了，这款目前使用很好，没出现刻录废碟，点赞
用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构
日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展
根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现
芯片厂商打响“2nm 工艺战”
用于生产 2nm 芯片的 ASML 新款光刻机预计在 2025 年首次投入使用，对芯片厂商而言，“2nm 工艺战”已经打响