正合适，价格也不贵，现在用刻录机的少了，市面上的刻录机良莠不齐，水货很多，质量也没有保证，考虑很久，还是不从实体店买了，这款目前使用很好，没出现刻录废碟，点赞
京东的铁粉，家里大大小小的物件都是从京东采购的。配送快，质量好！碰上活动更合适！质量好，非常满意，五星好评，诚信商家，物流很快，好评。价格优，商家服务好，非常满意，五星好评，诚信，商家，赞。十年前买过这个牌子，弹出不好使了，刻盘还能用，刻录机用的人少了，价格也便宜了，朋友家的明基光驱坏了，学校老师要用光盘，刚需使用，又入了一台。外置光驱坏了，所以买了这款内置光驱，希望能用的时间长点儿。。。 十年前用过先锋的光驱，质量不错，这回又买的是先锋光驱，还可以、运行稳定、读盘的声音也还可以。。。一直选择在京东购物，特别是京东自营店，质量有保证，享受下单后，很短时间内就能体验上产品的感觉，快递小哥服务很好，非常感谢。包装盒看舒服
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源
中国产新一代光刻机
本人为京东钻石级别plus会员，可以说是骨灰级的京粉！基本上家里小到菜米油盐，碗碗碟碟，日用品，家居用品，大到家电，电子用品，几乎京东有上架的我都买过，有好有坏，不过胜在售后一流，即使买到自己不合适的，直接申请售后就了得。这款漏勺很好用，价格更划算，关注很久了，终于等到你！
王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾，王丽萍写道：“根据我国现阶段的技术基础和研究目标，两镜微缩投影系统的研究仍为重点”
两镜头MET曝光工具的性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同，它不具有生产能力
王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》
王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm
当然，作为实验性工具，MET也是在不断发展的，第一代MET工具NA0.3的数值孔径，对应于ASML的第一代NA0.33 EUV光刻机；第二代MET工具具有NA0.5的数值孔径，对应于ASML的第二代NA0.55EUV光刻机
2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台
因此，从工业化角度而言，我国开发EUV，即便是可以省略了四镜头的ETS工程验证机的环节，六镜头的ADT演示工具应该是目前合适的攻关环节
王丽萍教授的两镜头EUV投影系统设计王丽萍教授的履历表写道：2004年毕业于长春理工大学后，于2004-2009年在中国科学院长春光学精密机械与物理研究所攻读博士