当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了
DSA光刻，目前没有一定特定的厂商在下注，就像佳能对于NIL技术一样
但如下图所示，在NIL、EUV、DSA三大光刻机上，巨头们都早已布局了
读盘速度：读盘速度很快，并且很稳定。 读盘声音：声音有一些读盘机械转动的声音不是很大。 稳定性能：性能稳定可靠。大品牌的东西一直在用。 轻薄程度：台式机装机内置光驱的性价比最高的大品牌经典产品。是标准内置光驱的大小。 外形外观：金属外观，结构结实。 产品包装：产品包装牢固可靠完好。内置减震泡沫，防止磕碰。新款产品外包装印刷图案区别于老款。
EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造
而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先
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众所周知，在当前的芯片制造环节中，光刻是其中一个必不可少的重要环节
而光刻就需要用到光刻机，而7nm及以下芯片的光刻时，就需要用到EUV光刻机
EUV光刻机非常复杂，全球只有ASML一家企业能够生产
同时EUV光刻机成本非常高，一台EUV光刻机售价超过10亿元，最新的0.55数值孔径的EUV光刻机，价格更是超过3亿美元（20亿元）
这对于一般的晶圆企业而言，是不可承受的成本，所以一直以来，业界都探讨EUV光刻机的替代方案
目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种，分别是1、纳米压印光刻（NIL）；2、直接自组装（DSA）光刻；3、电子束光刻（EBL）
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实用主义，虽然弹出来那种感觉很山寨，但是好歹没什么问题，随便刻录了一张CD，效果很不错！
读盘速度：读盘速度挺快的，稳定性很好 读盘声音：目前感觉声音比较正常，算是比较安静的 稳定性能：性能稳定不会飞盘 轻薄程度：普通的标准大小吧 外形外观：整体外观密闭性挺好，材质看着也很不错 产品包装：包装设计觉为艺术规范很结实
而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA
蔡司作为EUV光刻机的重要供应链，主要还是发务EUV，专利上占到了353件，而NIL也有38件，DSA则为0