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这两种技术的结合，在一定程度上减少了先进工艺的采用，因为这种新技术不仅降低了成本，同样可以做到芯片性能的提升，本质上来说，还是因为在芯片的设计环节起到了关键作用，而现在，复旦大学在芯片的底层技术，也就是晶体管技术上实现了突破
实际上，就在今年年中的时候，台积电方面就表示，将CEFT晶体管技术作为未来的发展重点，且将CFET作为GAAFET的接班人，GAAFET是3纳米和2纳米工艺的晶体管技术，3纳米之前采用的是FinFET晶体管，英特尔方面也在大力发展CEFT晶体管
这家的先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机 支持BDXL刻录/ BDR-S12XLB的真是太好用了，用了第一次就还想再用一次。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机 支持BDXL刻录/ BDR-S12XLB包装不错，很严密，产品样数和下单一样，送的东西也很满意。五星好评！非常好，非常好好用，舒服，评个五星，发货快一天就到了。
简单来说，复旦大学成功实现了CFET晶体管，该晶体管在当前的应用特点，是可以实现集成度的翻倍，这与提升芯片制造工艺的结果是一样的，因为提升工艺的目的就是为了提升晶体管的集成度
因此我们就可以看到，将芯粒、CFET和先进封装结合起来，就可以实现异质异构芯片，异质异构芯片与采用依赖先进工艺的同质同构的芯片相比，性能上并不占有劣势，但是成本上却占有极大优势
光刻机应用于什么领域
第二次购买了，这次选择黑色区分一下，刻录出来的光盘很好没有问题。比传统光驱短，占用空间少，不错！非常喜欢
安装之后下了播放器，使用起来非常顺畅，读取蓝光碟迅速，很棒，先锋电器产品是老牌的品牌 质量可靠 性价比很高 ?评
中国芯片在底层技术上实现突破
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在芯片设计上，28纳米工艺只需要4280万美元，7纳米则需要2.486亿美元，3纳米已经需要5.811亿美元，2纳米预计需要7.248亿美元，所以一颗3纳米芯片的设计成本，就是28纳米工艺的近14倍，超40亿人民币
这种成本所暴露的问题，在光刻机上也开始显露
ASML方面在今年就已经表示，在高NA EUV光刻机的下一代产品上，光刻技术似乎已经走到了尽头
倒不是说技术上做不到，而是成本上难以承受，光刻机的NA可以继续提升，但是成本将高出天际