其中EUV极紫外光源由中科院长春光机所负责技术攻关;光刻机双工件台系统由清华大学/华卓精科负责技术攻关;高NA浸没光学系统由长春国科精密光学负责技术攻关;EUV光刻胶由中国科学院化学研究所/中国科学院理化技术研究所联合攻关研发
国产芯片国产光刻机开始突破作为芯片制造产业中最重要的一环,光刻机的作用自然非常重要
伴随着芯片产业链上的其他设备如蚀刻机等已经突破至5nm,国产芯片产业也愈发完善,而光刻机也成为最后一个需要攻克的技术难关
光刻机技术取得突破其实国内对于光刻机同样十分重视,早在2006年就开始实施《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目,其中光刻机在16个重大专项任务中排名第二,因此也被称为“02专项”