滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商，这就更加困难了，所以其它的光刻机企业，在EUV这个赛道上，是不太可能与ASML竞争的，除非换赛道，以另外一种技术试

目前佳能是押宝纳米压印光刻（NIL）技术，而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL)，还有企业在研究直接自组装（DSA）光刻，X-射线光刻等，都是绕开EUV技术

产品包装：包装妥当，严实 稳定性能：稳定 读盘声音：较小 外形外观：小巧 轻薄程度：轻薄 读盘速度：很快 先锋不愧是光驱第一品牌，以前用过先锋的CD刻录机，从没有废盘，刻录质量杠杠的！

先锋蓝光刻录机己收到，质量很不错。物流送货上门，非常方便，很好，安装到位，正在调试，物流也很快。昨天下午下单，今天上午就到了

据知情人士透露，目前荷兰政府认为，如果响应美国的芯片法案，可能会损害荷兰与中国的贸易关系

荷兰ASML光刻机公司可以看出，荷兰高管最近不断强调本国拒绝随美遏华，显然是被美方逼得有些烦了

从特朗普执政时期，美国就想要在半导体行业对华实施技术封锁，并因此找上了荷兰和日本

比如我在2021年7月前后撰写多篇短文介绍这套进口德国的极紫外反射镜镀膜机

技术发展曲线的讨论分为创新行为和复制行为，正如我前文所述，它们依赖于完全不同的人才、软硬件条件、资源等

光刻机困局调查中涉及的时间动态分析图：系统复杂度的演变结语我们之前讨论过ASML的几百家核心供应商

用了多年先锋刻录机，相信它的质量，到手发现很小巧玲珑，方便携带，试刻了一张，很好，和win7兼容的很好，自动安装了驱动，系统直接就可以刻录，做工也不错！

当然，我们在中国的光刻机困局的讨论仅限于核心部件

ASML一改往日对中国市场爱搭不理的态度，反过头来对中方市场献殷勤，令我国半导体产业看到了独立自主研发成功光刻机的可能性

那么ASML为何会发生这般态度转变？这将如何影响中国半导体产业的自主化？二、ASML为何态度转变？ASML之所以发生这样大的态度转变，是因为美国的政策已经开始威胁到了ASML的生存

自然要响应美国的政策，但是现如今经营出现问题，假如不向中国大陆出口DUV光刻机甚至面临破产危机，也就顾不上家国情怀了

其次则是光刻机零件上万，部分只有美国可以生产，因此美国与ASML可以说是相互依赖的关系

光刻机大飞机

做工很好，工作稳定，噪音小，读光盘快速静音，刻录光盘可靠性高。有说明书，附带安装螺丝。外包装是纸箱，无挤压变形。京东物流很快，快递小哥直接送到家。

德国的蔡司半导体提供整体的方案，还提供后续所有镜头，而ASML与蔡司在这一块也是独家合作，蔡司不向另外的企业提供这项技术，而目前没有任何其它厂商能够达到蔡司的这个水平

第三部分才是光刻等技术的整合

可见在关键领域ASML通过技术壁垒构建了产业护城河，也的确成功阻挡了其它企业复制出EUV光刻机

“我认为我们需要认识到，中国大陆是半导体行业的重要参与者，尤其是在成熟制程和主流半导体领域，”阿斯麦CEO温彼得（Peter Wennink）向投资者坦言，“中国大陆是全球市场非常重要的供应商，所以我们必须小心行事

先锋这个品牌也算是小时候就有的记忆吧。这次自己趁618搞活动，自己组装了一台电脑。我自己偶尔会用到光盘，所以组装电脑的时候比较在意光驱。比来比去选了先锋光驱。用了一段时间了，功能一切正常。读取速度很快。满意。京东快递也很给力。第二天就到货了。点赞。

与此同时，三星、SK海力士、英特尔、台积电以及联电等半导体巨头均在中国大陆布局有产能

相信品牌！机子看起来很简约，耐看，用起来也非常好用！店家快递很快，包装也很好，光驱还没用呢，看着无划痕，新品应该是！等用上再看看

我们国家在4年前，曾经研制出一种特别的光刻机，但是很少有人知道，它的名字叫超分辨率光刻机，这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm以下的工艺制程

在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工

可实现22纳米工艺制程

凭什么说中国造不出光刻机?复旦复华的国产光刻机

可以生产7纳米以上制程的深紫外线光刻机，也被称为DUV，其市场主要由ASML，日本的尼康和佳能瓜分，其中ASM了占据了９成的市场份额，而可以生产更为先进的７纳米以下制程的极紫外线光刻机，也被称为EUV，就只有来自荷兰的ASML能独家供应，没有竞争对手

大品牌！值得信赖的！效果超级好！贵有贵的道理！很棒的商品！像之前的时候一直不知道先锋的光驱都没有，然后通过搜索之后啊，现在用光驱呀，就在先锋的光驱，真的是业界的精品。真的是挺不错的，嗯，反正是课本的话，然后速度超快，而且还稳定。小逼之前用的那种lg的还行的那种都好的太多了，真的是在大家都来购买。

国产光刻机突破在即

为了完成光刻机的研发需要多个部门和机构协同合作，国内多个顶级研究院以及大学都参与到了光刻机的研发之中

国产光刻机除了上述已知的企业和研究所之外，还有更多的科研机构在默默地进行着光刻机技术的研发和突破，也正是在齐心协力之下，第一台可用于28nm芯片制造的国产光刻机也有望于近期亮相

读盘速度：非常快 读盘声音：有些大 稳定性能：不确定 轻薄程度：非常轻 外形外观：完美 产品包装：正品包装

长春光机所光刻机光源

很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年

在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机

半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段

中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式