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德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前，美国开展了为期3年的工程验证机（ETS）研究，其采用的是四镜头曝光光学

所以更宽范围来说，过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态

而高NA0.55EUV光学系统是从十年前便开始布局工业化，因此，我们从蔡司的产品迭代来看，我们与蔡司的技术代差实际上是放大了的

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宝贝包装严实，物流很快，运转起来也比较流畅， 复制光盘上的文件很好，总体感觉不错，有需要的 可以下手啦！

大家都能看出来，这两家是以前制造照相机、录像机的世界知名企业

但技术落后于荷兰公司

光刻机无论哪国生产，主要技术都是美国掌握；他们根本不向中国出口先进的光刻机，这么多年我们使用芯片都是进口，前段时间芯片断供，我们还紧张了一阵子

很好用，不愧是老牌子，声音小，稳定，读碟和刻录都不挑碟，真值得购买！京东客服很给力，保修期内维修时间超过15天都没反应，直接联系给换新了！感谢感谢！后续有需要还会回购的

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读盘速度：速度快。 读盘声音：声音小。刻录声音也不大。 稳定性能：性能稳定。 产品包装：包装很好。

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光刻机（lithography）又叫光刻系统，是制造各种芯片所必不可少的一种设备，其主要是采用类似冲印照片的方式，将掩膜版上的精细图形通过光线印制到硅片上

众所周知，在芯片制造中，光刻机是必不可少的设备

而7nm及以下的芯片芯片制造，EUV光刻机是必不可少的设备，而EUV光刻机仅ASML一家能够生产，所以一直以来ASML都是保持着自己的节奏，不多生产

这样EUV光刻机就是卖方市场，ASML说了算，三星、台积电、intel等厂商，要从ASML这里抢，才能够买到，价格还高高在上

到货后马上拆机更换，读取速度也很快，刻录效果以后再试，一直用这个牌子，效果不错，东西还是不错，好用，就是包装盒是脏的，不舒服

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同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术，然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用，于是台积电才找上ASML，而当时的ASML相当落魄，寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视，但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局，于是与台积电一拍即合

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光刻机的技术难点

在京东买过好多次刻录机，因为用的比较频繁，最满意的就是京东的售后，电子产品一般都会在京东购买。在电子产品这方面，京东是体验最好的网站没有之一。

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对于现有的硅基芯片，全球最大的芯片制造企业台积电研发先进工艺已遇到了巨大阻力，3nm工艺已延迟了一年，在今年三季度研发成功后却被苹果认为用它试产的A16处理器性能不达标，成本却太高，最终苹果舍弃了3nm工艺，导致台积电的3nm工艺面临无客户采用而没有量产

文 | 华商韬略 付磊　　时代在发展，科技在进步，如果说科技是一个国家强盛的根基，那么半导体芯片的制造则代表着人类科技的发展水平，而光刻机则是芯片制造中必不可少的一部分

　　如今，我国能够生产的光刻机是第四代的ArFDE 90nm制程，然而世界上最先进的光刻机生产企业ASML已经可以做到生产EVU的7nm制程量产

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使得自身的科研进度逐步减缓，以至于中国的集成电路在科研、教育等方面出现脱节，自主研发的道路越走越窄

此外，为了保障晶圆图案的质量，光刻机中每一块透镜的位置误差都必须小于1nm，同时还要能尽量消除光损失而产生的热量

玩过单反的朋友，估计都知道镜头设计是多么复杂，更何况光刻机使用的是超大、超多组镜片

在工艺上，光刻机所要求的镜面光洁度非常高，需要采用精度最高的打磨机和最细的镜头磨料，还需要顶级的计算机数控光学表面成形技术相关的技师

为了让激光束能以极大的功率稳定传输，系统的复杂性可想而知

事实上，EUV的激光系统就有大约45万个零件，重约17吨，线缆长度超过 7000 米

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重点在于，ASML并非是煮烂的鸭子光嘴硬，面对升级的禁令，ASML的身体也很坚挺！据报道，我国另一晶圆厂上海鼎泰匠芯科技从ASML采购的光刻机已经到货，而且随着工厂的建成落地，据悉鼎泰匠芯已经开始导入用于生产12英寸车规级功率半导体晶圆制造中心项目

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这也代表着中国由于自身原因遭遇第二次“卡脖”

　　历时20年之久，中国光刻机技术一直卡在193nm无法突破，中国随着发展也逐渐认识到半导体产业的重要性，开始探讨突破193nm的方法

而此时的ASML却已经开始了EUV光刻机的研发工作，并且成功在2010年正式研发出第一台EVU原型机