国产光刻机突破在即
其中EUV极紫外光源由中科院长春光机所负责技术攻关;光刻机双工件台系统由清华大学/华卓精科负责技术攻关;高NA浸没光学系统由长春国科精密光学负责技术攻关;EUV光刻胶由中国科学院化学研究所/中国科学院理化技术研究所联合攻关研发
为了完成光刻机的研发需要多个部门和机构协同合作,国内多个顶级研究院以及大学都参与到了光刻机的研发之中
国产光刻机除了上述已知的企业和研究所之外,还有更多的科研机构在默默地进行着光刻机技术的研发和突破,也正是在齐心协力之下,第一台可用于28nm芯片制造的国产光刻机也有望于近期亮相