继asml光刻机之后
禁止对华出售光刻机?荷兰高层强硬回怼:我们不会照搬美国
刚收到货,装上后刻了一张,很好。原以为先锋DVD内置刻录机停产了。现在看来是谣传,从机子上看是今年5月出厂的。
去年的“缺芯荒“,对全球电动汽车的销售造成重大影响
自特朗普政府开始,就将半导体作为打压中国高科技企业的“命门“,华为、中兴两大曾经风头无两的中国高科技巨头,在美国制裁禁令之下遭遇史无前例的滑铁卢
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公开资料显示,在2022年第一季度,ASML向大陆市场出口了23台光刻机,一举超越美国,成了ASML第三大业务市场
而且,国内还有大约30座正处建造阶段的晶圆厂,未来也完全有可能成为ASML的全球第一大业务中心
其次,虽然国产光刻机的整体技术水平跟ASML相比还有不小的差距,但近些年的快速崛起也是有目共睹
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众所周知,如今我们的生活各方面由于智能化的到来变得非常方便,但是智能化的同时离不开高尖端芯片,日常生活中手机、电脑以及军事领域等都需要用到芯片
由于中国在高尖端芯片有待提升,所以还需要依靠进口
不过美国肯定不愿意看到中国崛起,就用政治力量对正常的贸易进行制裁,以遏制中国发展
而同样被美国施压的日本企业也是认识到,中国市场的份额很高,不愿意轻易舍弃
其实就客观来看,荷兰无论是政府还是企业都是无意与中国市场“脱钩”的,之前荷兰虽然也是出台了部分对华措施,但是更多的还是迫于美国的压力
2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中,IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划,其中明确了两代EUV光刻技术代差:1,2023-2026年,将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14(14Å)节点;2,2026-2032年,将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
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与此同时,ASML还有出货,以及这项成熟技术不受限制,并且还让中国市场的客户对ASML展开一个全面的认知,加深合作的前提背景
可我们忽略了,其实阿斯麦也早已释放了可能出不了货的信号
不知道大家还记不记得在老美颁发了限制新规之后,ASML就在第一时间停止了美国员工对中国客户进行了的服务一事
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对于中国来说,中国如今正在力推28nm、14nm光刻机的量产,这些都的DUV光刻机,与EUV光刻机可还隔着一代,在先进的DUV光刻机尚在努力攻克的情况下,推进EUV光刻机技术并不容易
如此就可以看出,中国企业提出的一两项专利其实对于光刻机产业影响有限,它需要整个供应链共同努力才能实现光刻机的量产,而一家非光刻机产业链的企业提出的光刻机专利恐怕影响就更为有限了
今年10月,美国方面出台新法案,进一步加强了对中国芯片出口的限制,不仅如此,拜登政府还分别向欧盟,日本,以及韩国施压,要求他们跟进美国的制裁措施,对半导体出口实施管制
因为荷兰的阿斯麦公司,是全球最大同时也是最先进的光刻机生产商,所以外界认为,荷兰在这场与芯片相关的博弈中,将扮演非常重要的角色,甚至不排除会直接左右局势的发展
而这句话的潜台词是,既然施加过限制了,就没必要再急着加码,更不会彻底切断中荷之间在半导体领域的合作
很显然,荷兰的态度与拜登政府的要求存在巨大差距,所以有外媒认为,此举意味着美国遭遇了“重大挑战”,直白点说,美国讲话不如以前好使了
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如上图所示,去年全球一共售出478台前道光刻机,其中ASML拿下309台,占比为65%,日本厂商拿下169台,占比为35%
而中国厂商的份额为0
再看看5种分类,可以看到EUV光刻机是ASML独占100%,而DUV中,精度更高的ArFi、ArF Dry均是ASML说了算,占比分别96%、88%
而后道光刻机,同是用于芯片制造的后道工序,比如芯片封装等,另外还有光刻胶制造也需要后道光刻机等
众所周知,目前所有的芯片制造,均要经过光刻这么一个工艺,所以光刻机是必不可少的半导体设备
而光刻机与芯片的工艺是相对应的,比如EUV光刻机用于7nm及以下,DUV光刻机用于7-180nm
还有UV(i-line)光刻机,主要用于0.35um工艺
而DUV光刻机又分为ArFi光刻机,用于45-7nm;而ArF Dry用于65nm,还有KrF用于180nm等等
目前全球的光刻机厂商,真不多,特别是用于芯片制造的,也就是前道光刻机,全球也就四家,分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子
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