在历史上我们国家的光刻机也曾经有过一段高速发展的阶段,早在1965年中国科学院就研制出65型接触式光刻机;1977年研制出GK-3型半自动光刻机;1981年研制出JK-1型半自动接近式光刻机;1985年研制出分步投影式光刻机,达到美国4800DSW光刻机的水平,距离世界上最顶级的分步光刻机也仅有7年的差距
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