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而中国不可能得到欧美的帮助，也不可能获取到全球最顶级的设备零件，事实上和光刻机有关的零件，美国全部向中国断供

那中国真的就造不出来EUV光刻机吗？并不是，只不过速度要更慢，因为中国要造EUV光刻机，就连一颗螺丝钉都要自己造

中国的目标，是要在2030年造出EUV极紫外光刻机，大家可能觉得，ASML2010年就已经开始量产光刻机，这会不会太晚了，事实上，这并不算太晚，我们通过不断地缩小所采用的光源的波长（EUV光源13.5nm），增强投影物镜的最小线条成像能力（提高数值孔径1.3）等方式，不断缩小能够加工的最小线宽

近几年来中国极力发展芯片制造产业链，经过近十年来的努力，中国在芯片制造的八大环节都已达到14nm，刻蚀机更已达到5nm，而芯片封测技术已达到3nm，仅有光刻机还停留在28nm以上

光刻机也成为中国芯片制造最后需要打通的环节，而随着更多企业的加入，特别是近期一家重量级企业成功研发了光线折射技术，对于中国的光刻机产业来说无疑是巨大的突破

挺好的，和想象中一样，随意搭都很好看，满意！实用性和颜值都非常的赞，我很喜欢，还会再来买的宝贝做工真的非常精细，细节真的棒，爱了爱了

ASML CEO:High-NA EUV将于2024年出货

可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时，进一步提升效率和降低曝光成本

目前，EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片制程推进到3nm制程左右，但是如果要继续推进到2nm制程甚至更小的尺寸，就需要更高数值孔径（NA）的High-NA光刻机

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事实上，刻蚀机之前也是被美国禁运的，但随着中微公司的先进刻蚀机后，禁运也就没意义了，于是放开了市场，中国厂商可以随便买

而技术相对落后的则是光刻机了，目前上海微电子生产的光刻机，其标注的精度还在90nm

而ASML的光刻机，已经能够生产3nm的芯片了，这中间的差距还是相当大的

那么问题来了，当前国产半导体设备中，技术最先进的是哪一种，技术相对最落后的又是哪一种呢？上图这张图，其实说得非常明白了

国内光刻机成功

正品，发货速度也很快！这款蓝光刻录机支持16倍速，而且非常静音，刻录数十G光盘?最佳选手。省时间啊！美中不足没有附赠刻录软件

再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机，台积电当下的先进工艺制程产能过剩，而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺，为了增强竞争优势，台积电建立“3D Fabric”联盟，以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本

以前台式机用的就是这个品牌的光驱，老品牌值得信赖。读写速度还不错，比较薄，也不占地方，刻录的功能还没试，应该不会差到哪里去。很满意。

光驱收到了，非常好用，连续刻录了10张都成功了，先锋这个牌子还是值得信赖的。整体来说还是很不错的，店家服务态度很好，而且质量也很好，比前的华硕好用太多，开心

图为芯片晶圆加工在现代芯片制造中，光刻机可谓是一项必需的设备，在晶圆加工成芯片的过程中，包括光刻气体，光刻胶以及光罩在内的一系列光刻工艺步骤，都需要光刻机来完成，而这些步骤占据了晶圆加工流程的30%，可以说，一个国家如果没有光刻机，在制造芯片时几乎就是无从下手，但目前世界光刻机市场的话语权，均被牢牢掌握在西方手里，荷兰的AMSL更是垄断了10纳米工艺以下的光刻机市场

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

不过也有人称，光刻机所指的精度，并不是指能制造芯片的精度，光刻机可以通过多次曝光，提升分辨率的，那么问题就来了，上海微电子的90nm光刻机，最多能生产多少纳米的芯片？据资料显示，目前上海微电子的90nm的光刻机，主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等

欧泰克光刻机

现在，美国的加码施压，扩大打击范围，意欲将DUV也纳入控制范围，这不但会让中国正常的扩产通用芯片的能力面临考验，更会进一步限制中国向国际市场供应的能力

今年上海进博会上的阿斯麦公司展台 物极必反，荷兰ASML公司会听从美国的禁令吗？报道证实，从ASML公司到荷兰外贸与发展合作部，都对美国的长臂管辖恼怒异常

尖端芯片已成现代为电子工业皇冠上的明珠 美国多次呼吁禁止向中国出售更多芯片制造设备，荷兰将抵制

一位荷兰高级官员说，荷兰在向中国出售芯片设备问题上将捍卫自身的经济利益

3种替代方案

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先

当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了

另外，光刻机的制造对生产环境要求相当高

正是因为如此，目前没有一个国家可以独立完成光刻机的制造

以光刻机巨头荷兰阿斯麦公司制造的EUV极紫光刻机为例，其就继承了美国、日本和德国等多个国家的技术

目前光刻机几乎被阿斯麦公司一家垄断，高端光刻机领域，阿斯麦公司的市场占有率超过90%

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