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目前的硅基芯片性能提升主要依赖芯片制造工艺的提升，然而业界都清楚硅基芯片的极限是1nm，而目前最先进的芯片制造工艺是3nm却已面临巨大困难，三星的3nm工艺技术更先进但是良率太低，台积电的3nm工艺基于成熟的FinFET技术却导致性能提升有限而成本过高被苹果舍弃

面对芯片技术的新进展，中国其实在量子芯片技术方面也并不落后，中国庞大的技术人员有助于中国在量子芯片技术方面加快赶超美国芯片的进展，这两年中国已取得了不少量子芯片技术专利

今年7月中科大的郭光灿教授团队就宣布首次在拓扑保护光子晶体芯片中实现量子干涉，奠定了中国量子芯片的基础，此外还有诸多芯片企业在量子芯片技术方面持续投入，深圳科技企业就宣布了多项量子技术专利

把禁令当“废纸”!ASML交付光刻机

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当初我们原子弹制造是从0到1的跨越，万丈高楼平地起，而光刻机要说，其实是从1到2的进程，只是目前我们没有办法研制高端光刻机，因此我们要做的，就是将高端技术走向高精端，只是这个过程并不容易了

可是目前我们所能够知道的，高端的光刻机，比原子弹要极为稀有，这是不得不面对的事实

为什么这样说呢？在时间的推移下，拥有核武器，能够制造出核武器的国家已经达到9个之多，五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个，而全球的核弹数量相加，更是一个庞大的数字

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值得一提的是，我国封测巨头通富微电掌握了世界领先的5nm“芯粒”技术，英伟达等多家美企为了降低“芯片禁令”的影响，直接与5nm通富微电签署了长达几年的合同

第三，华为等国内多家科技巨头发布了量子芯片技术，国内首条光子芯片生产线明年即将实现规模量产，加速了“下一代芯片”的商用

花万亿去研发光刻机

其次，美光绕开EUV光刻机制造出了能效提升25%、存储密度提升30%、功耗降低20%的高性能DRAM芯片，日本佳能、铠侠联手成功研制出纳米压印微影（NIL）工艺技术，将高端芯片的制造成本降低了40%左右

先锋dvd刻录机，多年的老品牌，刻录光盘，读写光盘速度快，稳定性好。可以满足日常读取或者刻录dvd光盘的需要，产品包装对刻录机的保护也很到位，避免了运送途中磕碰对刻录机的伤害，价格也很便宜，是一款高性价比的刻录机。

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　　1961年，美国GCA公司成功制造出第一台接触式光刻机，再加上新中国建立初期，美国、英国等17个国家就成立了国际巴黎统筹委员会，主要是为了限制成员国向发展中国家出口物资和高新技术，中国也在封禁的行列之中

光刻机镜片打磨

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如今新冠疫情趋稳，半导体供应链也迎来了步入正轨的时机，在此背景下，美国政府理应与全球半导体产业大国相向而行，响应众多企业确保半导体供应链稳定的积极倡议，共同维护行业的健康发展

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并且，随着大家对芯片大小和性能要求的不断提高，“光刻机”就显得更加重要了

随着芯片大小的改变，光刻机的作用愈加明显就这样，光刻机的线宽在不断优化升级，它的飞速发展创造了诸多的契机，让IC制造技术的极限不断被打破，摩尔定律也得到了不断的延伸

ASML公司的极紫外光光刻机价值2亿欧元光刻技术起源于印刷技术中的照相制版术，所以光刻机就像是一个性能夸张的单反相机，将层次光掩膜版上的图形进行缩小，缩小的比例高达百万倍，然后再将其进行制造

　　8月15日，美国商务部正式将金刚石、氧化镓两种半导体材料、用于GAAFET架构集成电路所必须的ECAD（EDA）软件、用于燃气涡轮发动机的压力增益燃烧技术加入到商业管制清单

其中，GAAFET晶体管技术是实现3nm及以下高精度半导体芯片设计的关键

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先锋刻录机很好，上一个用了7年多才坏，现在换一个新的。很好用，读取速度很快，不愧是大牌子！

在早些年的时候，人们就已经意识到了光刻机作为未来科技领域发展的重头戏，很多资本家已经把视线放在光刻机上了，他们不惜耗费大量的资金，主要目的也是为了在光刻机领域里面能够分一杯羹

所以在那个时候很多的老牌资本主义国家，像美国，英国，德国，法国等一系列的国家，在光刻机领域里面都下了大资本研究，并有所成就

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