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买回来当CD机用，非常好用，音质很好，先锋光驱不错哦，高颜值，高品质，非常好，一分钱一分货，材质外观和质量一看就很上档次，非常喜欢

尽管目前我国已经成为ASML最主要的消费市场之一，但ASML的最顶尖光刻机一直不愿意向我国出售，就算我们愿意出更高的价格购买，他们也不愿意卖，这是相当尴尬的一件事情

而ASML之所以不愿意向我国出口最顶尖的光刻机，这里面既有欧美的阻挠，估计ASML的股东们也不太乐意向中国大陆出口顶级光刻机，毕竟一旦中国大陆坐拥最顶尖光刻机之后，这些头部芯片制造商就会受到很大的挑战

目前的顶尖芯片制造三强，台积电、三星、英特尔，通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展，获得了大量的利润，进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发，从而形成一个良性的循环

“弯道超车”党看不见这些，他们整体呼喊着“弯道超车”的“商业模式”，无非是左右国家科技投入政策，将一笔又一笔的千亿规模的投资投入到他们的“弯道超车”的游戏模式中去罢了

光刻机版图设计

读盘速度：非常快 读盘声音：有些大 稳定性能：不确定 轻薄程度：非常轻 外形外观：完美 产品包装：正品包装

相信品牌！机子看起来很简约，耐看，用起来也非常好用！店家快递很快，包装也很好，光驱还没用呢，看着无划痕，新品应该是！等用上再看看

光刻机交付中芯国际

　　一台光刻机所集结的是美国的光源设备、德国的蔡司镜头、日本的光学技术和台积电与三星提供的制程技术，光说一个蔡司镜头就是需要几十年甚至上百年的技术沉淀和不断测试才能做到的，我国光刻机紧追慢赶从90nm到29nm就用了18年

物流速度很快，当天就到货了。性能也不错！十几年前的刻录盘都能读出来！！以前买过，用了很多年，突然不好了，干脆再买个新的吧！性价比很高！

中芯国际国产光刻机

之后理论上数值孔径还能够再提升，比如达到0.7等，但已经没太多必要了，非常不值得，因为成本太高了，难度太大，估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机，其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右，而INTEL也计划用它在2025年左右，量产2nm、1.8nm的芯片

说起EUV光刻机，大家都非常熟悉了，这是生产7nm及以下芯片时，必须使用的光刻机

更重要的是全球仅有ASML一家厂商能够生产，可以说ASML卡住了全球芯片制造企业的喉咙，大家要生产7nm及以下的芯片，就必须找ASML

彼时ASML透露，该公司在中国的业务布局包括14个办公室，11个仓储物流中心，2处研发中心，1个培训中心和1个维修中心，拥有1400多名员工

而本次该公司向观察者网披露的数据显示，ASML在中国设有15个办事处、11个仓储物流中心、3个开发中心，1个培训中心以及1个维修中心，员工人数超过1500人

中国有没有能力生产光刻机

非常好用的一款光驱。京东快递送货很快昨天晚上下单今天就送到啦。表扬。电脑上已经有了一台先锋刻录机也是在京东买的。由于刻录机。比较挑盘所以特意又买了一台DVD。这台先锋dvd，读盘非常稳定几乎听不到噪声。就算是，再烂的盘，也是很安静。有一张高压缩的dvd，连续剧碟在刻录机里完全不能读，但是这个新买的dvd光驱。就很顺利地读完了。

成都进口荷兰光刻机怎么清关

产品包装：外观小清新，保护很到位 外形外观：很经典，很商务 稳定性能：非常稳定，无故障

比起DUV光刻机，它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸

而EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个13.5nm的极紫外线是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的

刻录机一直买先锋，刻盘成功率高，废盘很少，买刻录机就买先锋。这款刻录机外观简洁大气，做工很好，使用也非常好，读取刻录都很棒，还没刻过坏盘！

这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段

而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术

众所周知，光刻机是芯片制造的母机，是最核心的设备之一

而EUV光刻机，则用于7nm及以下的芯片制造，且只有ASML一家企业能够生产

运输速度快，商品保存完好，没有损坏！商品质量好，货真价实！使用方便，方便简洁！产品易于操作！快递小哥工作很到位，送到家里，还放好了地方！

先锋的刻录机用过两台了，第一款是DVD刻录机用了好多年，后来升级成蓝光刻录机已经用了6年，刻录了快1000张蓝光盘还是很稳定，现在再买一台备用。非常可靠耐用的品牌。

中国光刻机留美

逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点的光刻机需要投资比例到了7纳米以下，先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加：1，5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%；2，3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%；3，2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%

当然，我们在中国的光刻机困局的讨论仅限于核心部件

在这个环节，我将尝试在EUV镜头制造、光学系统制造、光源制造等环节挖掘其瓶颈部分

只有涉及到根本层面时，我们才了解真正打破垄断所需要的软硬件条件，以及限制我国开发光刻机的关键环节

长春光机所进口德国的镀膜设备NESSY1900中国光刻机困局研究的基本方法技术分析是动态的，大致上建立一个随时间演变的基本的发展速度的模型，以过去二十年、三十年的基本背景作为参数，去评估、校正各种因素在其中的限制，以此去预测未来的发展曲线

很好，经过测试质量很好，刻录光盘很快。刻录稳定，一直很多年都在用先锋的，没有问题！非常满意

这比ASML目前在售的双工件台EUV光刻机大概又贵了一倍

此前就有调侃说，一台EUV光刻系统相当于一架F22/35战机

此前Intel表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了，三星和SK海力士则尚未表态

对于High-NA EUV技术之后的技术方案，ASML正在研究降低波长，但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方，其制造和使用成本都高得惊人，且不一定能真正投入生产，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头