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有了镜头，当然还需要光源，光刻机里的光源技术是来自美国Cymer公司

想要产生波长为13.5nm的极紫外光，其实是一个比较复杂的过程

简单来说，就是用20kw的激光，不断轰击从空中滴落的液态锡珠

这些液滴的直径非常小，只有20微米，大概相当于头发丝直径的1/3，并且液滴在真空环境中是处于自由下落的状态

那么阿斯麦的光刻机，凭什么能卖那么贵？光刻机制造难点熟悉《星球大战》的朋友都知道光剑吧，在那个主题设定里，光剑可是一种高科技武器

同样，在光刻机里，也有一把“光剑”，它能在晶圆上刻画芯片电路，这是芯片生产最基础也最关键的一环

“02专项”出窍，看国内现状中国目前技术最为先进的光刻机是上海微电子公司生产的90nm光刻机，其实对于光刻机的发展，中国一直在不断尝试，早在06年就成立了02专项，经过十几年的发展，在光刻机各方面已经有了长足的进步

终于拥有自己的刻录光驱了，比我上一个只能读取的上了一个台阶，很满意！现在很多机箱都没有光驱位了，为了方便起见，配了先锋DVD刻录机，质量很好。

有网友表示，在财政困难的情况下，竟然拿出如此一笔巨款开发光刻机，相信俄罗斯是认真的，一旦研发成功或将也惠及中国半导体市场

真的是难……

　　ASML因此担心：“如果不将光刻机卖给中国，五年之内，我们必将掌握所有的EUV光刻技术，十五年之后，ASML公司或将失去行业话语权！”　　但归根到底，核心技术还是得掌握在自己手上

就在美国持续加码打压的同时，中国光刻机也迎来了史无前例的再次奋起追赶

如果再在审批过程中适当拖延一下，中国能拿到的，只怕落后三代不止

　　在中国必须掌握集成电路的主动权的战略重视下，国产光刻机还是艰难地重新起步——曾经研发出投影光刻机的45所，被调至上海微电子，他们的任务是100nm以下光刻机的研究

如果荷兰同意美方要求，将大大拓宽目前禁止卖到中国的芯片制造设备的范围和类别，可能使中国芯片制造商受到影响

知情人士告诉彭博社，美国官员正在游说荷兰政府禁止ASML出售其一些较旧的深紫外光刻机（DUV）

这些机器比最先进的设备落后了一代，但仍然是制造汽车、电话、计算机甚至机器人所需的某些不太先进的芯片的最常用设备

荷兰没同意

先锋的老牌子，质量好，很厚实，韧性好，不易破，耐用。读盘速度：快稳定性能：非常好轻薄程度：薄外形外观：好 精挑细选的。安装上了，很好

那么为什么芯片的制造这么难呢？其实最主要的一个原因就在于光刻机的制造，光刻机，是在芯片制造当中必须要有的一个步骤，它是利用紫外线去除晶圆表面的保护膜，用于完成这一步骤的机器就必须是光刻机

所以如果在国家的芯片制造上没有光刻机的话，那么想要研制出芯片几乎是没有办法呈现

这种外置光驱非常好用，买来刻录cd用的，用完可以带走。非常好的一款刻录机，大品牌，值得信赖，而且这个也比较专业吧！

首台国产光刻机交付

但想要制造出一定的东西，必须要有工作台，在光刻机的制造上工作台同样也是一个非常令人头疼的技术突破口

中美芯片技术的新较量

收到后只用来放DVD，很好用。运行比较安静。希望耐用。用过才知道，和某品牌同价位的确实不一样，各方面都超出预期，还是非常过硬的东西，必须好评！

颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心

超级好的光速啊，十年前买的一个一直都在用，用不坏的先锋，还会再买这个牌子的。。。。

中国的量子技术专家表示量子计算机将不仅限于超级计算机，还将面对商用市场推出通用计算机，到那时候中国科技行业将彻底终结硅基芯片统治芯片行业的历史，中国的芯片技术也将达到世界领先水平，并形成我们自己的技术体系

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用上海微电子 65nm光刻机

所谓high-NA即高数值孔径，从当前的0.33提升到0.55，从而允许更紧密的电路图案（2nm及以下）和更高的生产效率

据报道，高NA EUV光刻机系统的单台造价将在3亿到3.5亿欧元之间，约合人民币21.95到25.61亿元

因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！

日本厂商则在低端的KrF、UV(i-line）上有一定优势，特别是最低端的UV光刻机上，占了大头

可见，整个前道光刻机市场，还是ASML说了算，日本厂商，拿走的是ASML看不上的低端市场，而国产连低端市场都抢不到

为何国产光刻机，出货量为0？首先是上海微电子目前最先进的仅为90nm，也就是KrF、UV阶段，处于低端，这里竞争大，有4家厂商在竞争，ASML、佳能、尼康都有

读盘速度：很快 读盘声音：很小，几乎听不到声音 稳定性能：性能稳定 轻薄程度：与台式机配套合适 外形外观：精緻 产品包装：严实无破损。

其实类似的现象在石墨烯技术上也有所体现，石墨烯技术被认为是最尖端的技术之一，由于它自身的特性，石墨烯技术用于电池上可以提升电池容量和充电速度，用于芯片上则可以大幅提升性能，因此全球都在积极研发石墨烯技术

正是由于EUV光刻机的高度复杂性，至今为止仅有ASML能生产出EUV光刻机，其他国家并无法生产出EUV光刻机，而且即使是诸多供应链企业提供了高度精密的元件，ASML同样需要投入大量技术人员研发相关的技术并对这些元件进行整合才能组装出一台光刻机

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当然，硅基芯片，也不需要这种电子束光刻机，这么高的精度更多还是用于量子计算芯片，制造出一些高精度的量子器件，纳米器材等

另外就是，EBL电子束光刻机，产能非常低，至少在目前大规模制造芯片也不现实，只能小规模的制造量子计算的芯片，至于未来能不能技术改进，提高产能，进而取代EUV光刻机，还不清楚