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近期光刻机巨头ASML频频向中国芯片释放善意，与此前的态度截然不同，让人摸不着头脑，直到近期它的高管发言或许能解释这一原因，中国市场已成为它最后的蛋糕了，能卖一台赚一台

一方面是光刻机的技术逐渐达到极限，继续升级已不太可能；另一方面是设备自身成本以及生产成本的激增，这就导致ASML自己都担忧这些先进光刻机未来还有多大需求，而快速发展的中国市场则可望成为台积电最后的希望

ASML向中国交付光刻机可能仅仅是开始，因为ASML已表示将在未来两三年将EUV光刻机产能扩张到90台，DUV光刻机产能扩张到600台，大规模扩张光刻机产能瞄准的客户除了中国恐怕再无其他，可以预期ASML未来必然会加大对中国出售光刻机的力度，不会再看美国的脸色

安装使用、领导很喜欢、手感、拿着也不错。外置光驱还不错，包装完好，外观漂亮，使用很方便，读碟效果还不错。

台媒报道截图 在发布本次财报前，阿斯麦柏林工厂曾发生火灾

TrendForce集邦咨询向观察者网提供的一份报告显示，阿斯麦德国柏林工厂火灾对晶圆代工及存储器而言，将可能对EUV光刻机设备制造产生较大影响

而根据该机构掌握的信息，阿斯麦所需的零部件亦不排除通过其他厂区取得，加上目前EUV设备交期相当长，因此实际对EUV供应的影响仍有待观察

实际上，就在今年年中的时候，台积电方面就表示，将CEFT晶体管技术作为未来的发展重点，且将CFET作为GAAFET的接班人，GAAFET是3纳米和2纳米工艺的晶体管技术，3纳米之前采用的是FinFET晶体管，英特尔方面也在大力发展CEFT晶体管

所以产业界开始寻找减少对先进工艺依赖的方法，目前已经取得了不错的成绩，即芯粒和先进封装技术

我们现在的芯片，本质上是同质同构，也就是采用同样的材料和同一种芯片架构

而芯粒技术，就是采用不同的芯片架构，在芯片制造的后端环节，利用先进封装，再将不同架构的芯片集成到一起，形成一颗“大芯片”，所以芯粒也被叫做“小芯片”技术

光驱收到了，非常好用，连续刻录了10张都成功了，先锋这个牌子还是值得信赖的。整体来说还是很不错的，店家服务态度很好，而且质量也很好，比前的华硕好用太多，开心

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那么，真相真的如此吗？近日，我国首台2.5D/3D封装光刻机已经完成了交付，尽管从光刻机的技术研发角度来说，还是存在着很多不足之处，但这也是我国自主研发光刻机的过程中，又一个重要的里程碑式成就

因此，一切都只是时间问题，特别是现如今很多顶级科学家都已经来到中国，在越来越多的高科技人才加持下，相信我国光刻机和芯片产业，也将后来居上

很好很满意，读碟流畅，之前买的华硕挺挑碟的，正版碟都读不出，这款棒棒的，刻录倒不常用，用移动硬盘多，暂时没有测试

而且仅有技术还不够，还需要持续多年的巨大资金投入才可以，比方说，阿斯麦在过去的40多年时间里，为了研发最顶级的光刻机，已经投入了近4000亿元

这一来二去，很可能在那个时候ASML就已经在为自己找不能出货的“后路”了

可能这时候有的人就会问了，那么既然如此ASML为何要积极的示好呢？如果大家能想起当初老美要求不少企业缴纳库存等机密数据，这些芯片巨头们先后的态度变化就能够理解现如今ASML的做法了

只是老美还是没有放弃，反而加紧了谈判的步伐

我们原本以为，ASML一直公开的表态就是拒绝老美的要求，甚至在荷兰态度和ASML一样的情况下，DUV光刻机出货局面基本稳定了

不仅如此，前段时间ASML的总裁还直接表示，继续限制光刻机卖给中企，5年内他们将掌握所有EUV光刻技术，15年之后ASML或将失去行业话语权，后果非常严重

由于ASML的EUV技术来自于美方，不少零部件来自于美企，因此ASML在EUV光刻机出货上只能乖乖听话，限制EUV光刻机给中企，所以中芯国际订购的至今未到货

光刻机为什么无法国产

另一个DUV光刻机，可以制造7nm以上的芯片，其中的DUV是深紫外光的意思，使用193nm波长的光源

所以很明显，我们的超分辨率光刻机的光源波长，要比他们大很多，这是因为技术原理上的差异导致的

超分辨率光刻机的工作原理是这样的，它采用表面等离子体超分辨光刻（surface plasma），也叫表面等离子超衍射光刻，是最近十几年兴起的一种新技术

读盘速度：快，对办公用来说足够了 外形外观：颜值派很喜欢，有质感，简洁大方 轻薄程度：中等吧 稳定性能：陆陆续续买过一些先锋的产品，整体而言很耐用，使用无特殊状况。 产品包装：无破损，保护得当。物流也很快。 这不是一个好评模板，但也算是一个好评模板，买东西评价也是一个很有必要的事情，分享使用的的好与不好，为他人提供建议，可以做参考，自己每次买东西前也会浏览别人的评价，看完也会觉得更加踏实，卖家秀令人迷惑，买家秀才更为真实，也可以让我们冲动的时候冷静一下头脑，更清醒的考虑到底适不适合自己，还需要不需要买。