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而这恰恰是工业发展历史不长国家的命门，也是目前我国暂时造不出真正先进水平光刻机的真实原因

光刻机与原子弹，谁更难？说到这里，有人不禁要问，中国曾在一穷二白的时期，独立研发过原子弹，为什么就是研制不出好的光刻机？其实，原子弹这样开创新技术的装备，研究的重点在于搞清楚原理

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中国作为目前世界上的第二大经济体，在很多高精尖领域都引领着技术的发展，但有一样象征着工业强国的科技产品，我国始终无法完成自产，这就是EUV光刻机

曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有泵灯，准分子激光器等

近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利，这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破

目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产，而ASML深受美国的影响，在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机，这也成为中国芯片制造的最大障碍

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ASML份额65%

大家都知道光刻机是芯片制造过程中，最重要的设备之一

但大家不清楚的是，光刻机也分前道光刻机，后道光刻机两种

前道光刻机，主要是指将芯片电路图，光刻到硅晶圆上的光刻机，也就是芯片制造的前道工序号需要的光刻机，也称之为前道光刻机，其中又分EUV光刻机、DUV光刻机，UV（i-line）光刻机

对此，中国外交部发言人赵立坚曾在例行记者会上明确强调，在当前全球化背景下，美方一再将科技和经贸问题政治化、工具化、意识形态化，对别国搞“技术封锁”“技术脱钩”，这只会让其他国家更加警醒，在技术上一味依靠美国行不通，也会促使各国加快实现科技自主自立自强

中企收购该晶圆厂会给英国安全带来两大风险，一是此次收购将导致其生产技术和经验泄露给中方，并削弱英国生产芯片的能力；二是该工厂位于英国重要工业园区内，中资企业与园区内半导体集群的密切联系可能会阻碍该集群从事与“国家安全”相关的未来项目

据中国电子专用设备工业协会和国际半导体产业协会的数据统计，2021年中国半导体设备市场销售额为187.2亿美元，同比增长39.2%，但中国半导体设备国产化率仅为20.2%

近年来，国内多家企业已在光刻机领域攻关

有媒体称，上海微电子公司已经可以实现90纳米光刻机的商业化生产，并且正在向着全球先进水平继续开展研发，但仍需要一定时间

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日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺，在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了，用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元，而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元，第二代EUV光刻机价格达到4亿美元

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根据此前美国彭博社的专题报道来看，美国呼吁荷兰的光刻机生产公司阿斯麦，限制对中国出口光刻机这类芯片设备，而荷兰外贸和发展合作大臣却给出了反对的法案，表示他们将会以“捍卫本国经济利益”为主

美国彭博社的专题报道，关于限制荷兰向中国出口光刻机不难看出，美国似乎一心想从“光刻机”方面限制中国发展

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其实日本的光刻机企业也有深厚的技术积累，在2005年之前，日本的佳能、尼康占有光刻机市场八成的市场份额，不过当时它们力推的是干式光刻机技术，干式光刻机技术逐渐达到瓶颈，台积电恰在那时候研发出了浸润式光刻机技术，而日本企业不愿失去已有的利益，将机会让给了ASML

日本光刻机产能加倍计划抢夺中国更多市场份额

如今佳能也开工建设新的光刻机工厂，无疑显示出日本的光刻机企业认识到了中国这个庞大的市场带来的巨大机会，事实上这两年中国就大举从日本采购二手光刻机，推动日本的二手光刻机价格暴涨两倍多，让日本企业赚取了丰厚的利润

对此不少人应该都会说，别人有都不如自己有，所以我们还是得自己造高端光刻机，这样就不用担心被人“卡脖子”了

它本身脱胎于飞利浦光刻设备研发小组，早期发展很艰难，但后期却异军突起，杀出重围

ASML早期发展艰难，后期异军突起目前，ASML垄断了高端深紫外光刻机市场，是光刻机领域的龙头企业

中国为何没造高端光刻机?一台包含10多万零部件

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被美国彻底打醒!俄罗斯全力以赴研发7nm光刻机