而这恰恰是工业发展历史不长国家的命门，也是目前我国暂时造不出真正先进水平光刻机的真实原因
光刻机与原子弹，谁更难？说到这里，有人不禁要问，中国曾在一穷二白的时期，独立研发过原子弹，为什么就是研制不出好的光刻机？其实，原子弹这样开创新技术的装备，研究的重点在于搞清楚原理
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中国作为目前世界上的第二大经济体，在很多高精尖领域都引领着技术的发展，但有一样象征着工业强国的科技产品，我国始终无法完成自产，这就是EUV光刻机
光刻机的含金量目前全世界能够制造EUV光刻机的国家只有两个，荷兰和日本
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比原子弹还稀有
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这一现实情况促使我国迟迟落后于不断进步升级的光刻机工业，被荷兰日本超过许多，又始终找不到破解的法门
靠着光刻机技术的垄断，美国及西方世界将中国死死阻挡在先进芯片国家序列以外
从这一点来说，我国在光刻机研发上面临的内外交困比制造原子弹那时还要严峻，制造光刻机的难度也比原子弹更大
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尤其是光刻机从DUV迭代到EUV后，加工精度更加夸张，对中国的光刻机制造单位而言，突破精度的技术壁垒，比登天还难
哪怕是我们有幸得到了最先进的EUV光刻机实物，也因为达不到相同的加工精度而无法国产
半导体光刻机国产替代股票
从目前的形势来看，我国弥补起这一领域的缺失还遥遥无期
我国目前的进展我国在这一领域的天赋和努力是受到世人肯定的，荷兰高科技学院的董事曾公开表示，如果不是美国卡脖子，中国在5纳米光刻机这一类别十年内就能赶上世界先进水平