High-NA EUV 是下一代光刻设备,与现有的 EUV 光刻设备相比,可以雕刻出更精细的电路,其被认为是一个改变游戏规则的设备,将决定 3 纳米以下代工市场技术竞赛的赢家
High-NA EUV 光刻设备的单价估计为 5000 亿韩元(约 25.85 亿元人民币),是现有 EUV 光刻设备的两倍
IT之家 7 月 20 日消息,光刻机巨头阿斯麦 ASML 今日公布了第二季度财务数据
ASML 表示,净利润较高的原因是新订单量创历史新高,因为尽管有迹象表明销售放缓,但该公司仍在尽可能快地向客户运送设备