这样的技术不仅可以用于DUV光刻机,还可以用于EUV光刻机
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光线折射技术就是光刻机的核心技术之一,从90nm工艺以来,DUV光刻机所采用的光源都是193nm的光源,而EUV光源则是13.5nm,通过在水等介质的多次折射得到相应波长的光线,从而实现了以193nm光源生产65nm至7nm工艺、13.5nm光线实现7nm至2nm的工艺,而这家企业公布的光线折射技术恰恰解决了光刻机的关键技术