滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

从目前的形势来看，我国弥补起这一领域的缺失还遥遥无期

我国目前的进展我国在这一领域的天赋和努力是受到世人肯定的，荷兰高科技学院的董事曾公开表示，如果不是美国卡脖子，中国在5纳米光刻机这一类别十年内就能赶上世界先进水平

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   EUV光刻机会使用二氧化碳激光不断轰击DUV上应用的金属锡原液，使其在激光下变为等离子状态，波长相比之前更短

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据悉日本这次是众多芯片设备企业与日本最大的芯片企业铠侠合作开发了先进的5nm工艺，估计是在原有的NIL工艺基础上研发的，此举对于日本的芯片产业来说具有重大意义，将进一步降低芯片的成本，重振日本的芯片产业