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所以对于ASML的DUV光刻机来说，我国是非常大的一个市场，也就我国还有订购DUV光刻机的空间，但对于更先进EUV光刻机，却绝口不提

第二就是不想给自己培养竞争对手，要知道芯片受到限制后，我国也在芯片产业上不断发力实现突破

刻录机包装完好无损，外观设计漂亮，性能稳定。物流超快。感谢商家和快递小哥！包装很完整，做工也不错，入手很轻，读盘顺畅，还没试着刻盘

为了能尽快解决芯片发展受限的情况，国内的企业也在不断发力，为的就是能尽快解决国产光刻机和芯片“卡脖子”的问题

包装妥妥的。安装后马上试机，效果非常不错!老牌子不愧为老牌子，抵赞!光驱收到上机试了很稳定，以前一直用先锋DⅤD刻录光驱质量很好。

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先

众所周知，目前主流的光刻机主要有两种：一种是极紫外线EUV光刻机，用于7nm及以下的芯片光刻；另外一种是DUV光刻机，称之为深紫外线光刻机，主要用于10－130nm光刻机，只有ASML能生产

尽管DUV光刻机不是最先进的，但在多重曝光的情况下，最高也能做到10nm制程，由于无需获得美国出口许可证，相关产品一直正常给长江存储，上海华虹等厂商供货