然而就在2019年,美国突然宣布对华为实施制裁,并且将制裁范围从芯片扩展至其他更多的领域,光刻机对华销售也在其中
而此时的中国,小于5nm的芯片晶圆只能依靠ASML的EVU光刻机生产,迫于美国的压力,荷兰只能妥协,中国因此迎来光刻机发展的第三次“卡脖”
此时的中国就已经意识到了其重要性,快速向半导体产业进军
恰巧2000年的中国,正是大量爱国人士回国创业的时代,他们带着外国的先进知识和经验,进一步促使中国半导体的产业得到光速发展
2007年,上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机,但由于大多数元器件来自国外,西方国家再次禁运,导致无法量产