国产光刻机技术有了新进展了!老狐最近得知,华为公布了自研光刻机的部分技术专利
根据专利显示,华为申请的这项专利并不是制造 EUV 光刻机的专利,而是 EUV 光刻机其中一部分的专利
该专利主要解决光刻机中的“匀光问题”,匀光问题”是在匀光系统上所出现的问题
不过,虽然国产光刻机开始不断进步,但技术差距和国外依旧有较大差距,这是客观现实
现阶段,我国无法制造高端光刻机,但可以制造一些低、中端的光刻机
2020 年 6 月,上海微电子设备有限公司透露将在 2021—2022 年交付首台国产 28 纳米工艺浸没式光刻机