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这对于一般的晶圆企业而言,是不可承受的成本,所以一直以来,业界都探讨EUV光刻机的替代方案
目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种,分别是1、纳米压印光刻(NIL);2、直接自组装(DSA)光刻;3、电子束光刻(EBL)
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