滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

读盘速度：读盘速度快，我喜欢。读盘声音：声音也不大，不像二手的。稳定性能：性能也很稳定。非常好用，以前不能读取的光盘现在可以了。刻录功能是我的首先。还没试，稍后有空再操作！

大家好，这里是芯榜---中国芯片大数据平台

今天推荐一篇深度文章《封锁、逆境、曙光：国产光刻机的艰难往事》2018年，大洋彼岸的一则禁令，让国人感受到了一小颗芯片的力量

光刻机也逐渐成为热词，网上关于光刻机的讨论铺天盖地

很好用，稳定实用，磨砂外壳也不易沾染指纹。很不错！性价比高！买一个装着说不定用得着。虽然现在用光盘概率很小。。。

读盘速度：快， 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻 稳定性能：目前使用稳定性好 产品包装：包装精致

读盘速度：读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定！ 读盘声音：静音效果好，不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能：支持UHD 的4K蓝光盘读写！这点非常棒，是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好，连续读写不降速。 轻薄程度：正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观：外观漂亮，新款带类钢琴烤漆面的一体式面板，比老款好看很多。 产品包装：包装精致，不知道是不是因为是国内总代的关系，所有一次性封贴都是索厉的。

非常满意！速度快！服务好！京东自营服务好！买的安心！用的放心！十分满意！不错不错！七天无理由退货！很好很好！价格实惠！质量好！

国产量子芯片“光刻机”取得重大进展

中国的量子技术专家表示量子计算机将不仅限于超级计算机，还将面对商用市场推出通用计算机，到那时候中国科技行业将彻底终结硅基芯片统治芯片行业的历史，中国的芯片技术也将达到世界领先水平，并形成我们自己的技术体系

面对芯片技术的新进展，中国其实在量子芯片技术方面也并不落后，中国庞大的技术人员有助于中国在量子芯片技术方面加快赶超美国芯片的进展，这两年中国已取得了不少量子芯片技术专利

7月初，彭博社援引知情人士报道称，美国官员正在施压荷兰政府，将对华禁售的阿斯麦光刻机从最先进的极紫外光刻机（EUV）扩展至相对成熟的DUV（ArFi），此举旨在阻碍中国大陆提高半导体制造能力

在半导体产业链中，DUV虽然不如EUV昂贵和先进，但也是7nm及以上制程不可缺少的设备

稳定性能：非常稳定 读盘速度：速度快 读盘声音：无噪音 外形外观：精致美观 轻薄程度：轻薄

光刻机巨头ASML:限制对华出口DUV

相信品牌！机子看起来很简约，耐看，用起来也非常好用！店家快递很快，包装也很好，光驱还没用呢，看着无划痕，新品应该是！等用上再看看

非常好，一开始没用起，找售后了解后用起了，效果非常棒，售后很热情，必须五星评起

读盘速度：读盘速度很快，加持USB3.0。 读盘声音：运行比较安静，比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能：稳定性强，底部防滑。 轻薄程度：轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳，强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了，方便极了。

美国所推行的“脱钩“政策，打压中国芯片产业，阻碍全球经贸流通的做法，本就不得民心

拒绝追随美国极端反华路线，是大多数理性国家和政客的共识所在

有兴趣的朋友可以去美国知识产权中心网站查阅一下 EUV的专利，你会发现，我们公司、科研机构、大学等都拥有 EUV的专利权，你可以去上海光机所看看， EUV光刻机的招聘工作，也是最近才开始招人的

国望光电在年初就已经在竞标无尘室内，国望是国内主要的光刻机曝光设备，各位可以看看下面的图片

ASML靠着双工件台、浸润系统和 EUV技术，一步步成为光刻机行业的龙头老大， ASML很清楚，他们只是一个默默无闻的光刻机工厂，而光刻机美企业的老大，却已经没落了，所以，在这个领域，很少有人能一直赢下去

中国已生产14纳米光刻机

先锋蓝光刻录机己收到，质量很不错。物流送货上门，非常方便，很好，安装到位，正在调试，物流也很快。昨天下午下单，今天上午就到了

无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求

终端市场推动了成熟制程的产品越来越多，比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等，成熟制程市场空间不断增长

先锋刻录机中的战斗机，老品牌值得信赖，刻录很稳定，静音，读取数据很快。读盘速度快，声音轻，很稳定。不愧是光驱界的老大。

编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

先锋的刻录机非常好，老品牌了，以前就经常使用，质量好，价格实惠，非常满意，快递非常快！

2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点

IT之家 8 月 26 日消息，据彭博社报道，ASML 新一代 EUV 光刻机每台耗电约 1 百万瓦，约为前几代设备的 10 倍，依赖该设备生产芯片的三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大，芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石

据报道，中国台湾 2016 年制定一个目标，到了 2025 年，其中 20% 电力来自可再生能源

然而，从 7 月的最新能源审查显示，截至 2021 年底，只有 6% 电力来自可再生能源，促使其下调 2025 年的目标至 15%

读盘速度：很快 读盘声音：很小，几乎听不到声音 稳定性能：性能稳定 轻薄程度：与台式机配套合适 外形外观：精緻 产品包装：严实无破损。

半导体设备主要由七大设备零部件构成：光刻设备、刻蚀设备、清洗设备、薄膜沉积设备、离子注入设备、机械抛光设备及封装、测试设备

①光刻机（国产化率低于10%） 全球：技术壁垒超高，竞争格局超好

AS­ML、尼康和佳能三家厂商垄断，其中又以AS­ML一家独大