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ASML也态度坚决

或许很多人认为这两者并没有关联，但并非如此，ASML手中的EUV光刻机以及DUV光刻机都是ASML的一个整体，如果借助EUV光刻机需要的原材料、技术等多个方面来卡DUV光刻机的脖子，那么ASML还是摆脱不了限制

而且在这个关键时候，ASML还坚持完成没有交付的光刻机订单属实值得我们佩服以及欣喜

这意味着在后面我们很可能获得ASML出货的DUV光刻机

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一直都蛮喜欢先锋，在华硕和先锋两个品牌面前纠结了好久，最后还是选择了先锋，读书的时候就是只用先锋，现在还是选择先锋，质感非常不错哦，小日本的东西还是不错的！便携式给客户刻录碟片非常方便！给京东一个大大的好评！赞！

ASML为何坚持向中国出售光刻机？主要还是有以下几点原因

首先是为了自己的销售额，据相关数据统计，全球100多家芯片企业中，我国的芯片厂商就有42家，如今高端芯片被台积电和三星这些龙头企业所垄断，而我国中低端芯片产能还非常高

台积电和美国芯片企业都在舍弃ASML的EUV光刻机，ASML终于开始重新将目光放在中国市场，近期表示将大举扩张光刻机的产能，EUV光刻机产能将提升到90台，DUV光刻机产能增加至600台，然而它迟迟未能对中国自由出货，而中国芯片已经等不及了

台积电是ASML的第一大客户之一，更是EUV光刻机的主要买家，在台积电给了ASML一记重锤之后，ASML一直顺从的美国却又给了它一记重锤

美国芯片企业美光表示绕开EUV光刻机研发的10nm级别的1β工艺提升了存储密度30%，而功耗降低了20%，更重要的是成本大幅下降，这主要是因为EUV光刻机比美光现在采用的EUV光刻机贵了2-3倍

同时，还将同步推动建成芯片设计、5G智能硬件和AI/IOT模块设计的研发总部，助力上海成为国际一流的半导体和5G产业创新高地

未来，临港12英寸车规级晶圆厂的投产，也将有助于安世半导体快速增加产能，对满足全球客户日益增长的需求具有重要意义

这意味着，首台ASML光刻机搬入，中国首座12英寸车规级功率半导体自动化晶圆制造中心即将投入生产；与此同时，ASML也通过实际行动表明了自己不放弃中国市场的态度！▲ 首台设备搬入造芯：预计年产36万片！根据鼎泰匠芯官方消息显示，临港重装备产业区F16-01地块项目，位于上海市浦东新区南汇新城镇，东至新元南路，西至鸿音路，北至万水路，占地约198亩，总建筑面积达204059.7平方米，总投资超120亿元

目前荷日的光刻机都采用的固定操作台，对于这样一个精密机器，工作台也需要做到极高的精度，EUV光刻机采用高精度激光干涉仪，以便降低光刻机的位移干扰

   总的来说，光刻机代表着人类机械加工的最高水平，对于一个国家的基础工业和精密加工技术都是极为严峻的考验

京东就是这么牛，服务很好，快递物流超快，第二天就收到件了，佩服啊。读碟快 刻录静音 音质很好 先锋就是先锋

光刻机的技术难点先进光刻机制造的第一个难点就是机器的光源问题，在EUV光刻机问世以前，DUV光刻机是世界的主流，二者最大不同在与将DUV上193纳米的短波紫外线改为了13.5纳米的极紫外线，光刻机精度取得了跨越式发展

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随着全球芯片市场出现短缺以后，国产芯片产业链就迎来了大爆发，而我国作为全球第一大的芯片消费市场，每年都要从国外进口超万亿规模的芯片，只要有国内市场加快发展，并努力实现自给自足，那么有这万亿级大市场的支持，我们何愁中国半导体发展不起来呢？不知道对此你是怎么看的呢？

可量产14nm芯片?外媒:中国半导体“大势已定”

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

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这种改变，让芯片产业对EUV光刻机的需求下降，而ASML要保证自己的市场地位和盈利水平，就必须要保证DUV光刻机的出货量，所以我们就看到，就在前段时间，ASML方面不顾老美的要求，坚持向中企供货，并直言即便DUV光刻机使用了少量的老美技术，但是ASML依然可以继续向中企供货，言外之意，必要时，ASML可以选择用其他技术替代老美的技术

以前一直用三星，先锋也是大品牌，据说造假很厉害，信赖京东自营，这次试试。光驱对我来说是必备硬件，仁者见仁智者见智，有人习惯了U盘，某些特殊情况下，还是光驱方便。读盘速度很快，噪音也不大，做工和三星一样精细，目前用着很稳定，产品包装也比较到位。背面还有好几处防伪的刻字。很不错的一款产品。

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而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

要知道我们仅仅能够采购DUV光刻机就占到了如此高的份额，如果EUV光刻机也能够销售的话，那么对于ASML将是一个无法忽视的巨大市场

但如果连DUV光刻机也无法销售，那么ASML同样也将失去这个市场

同时也会促使国内的光刻机厂商加速研发来摆脱禁售的控制，一旦上下齐心完成了对光刻机的攻关，那么ASML也将不再被需要，甚至还会在全球抢夺ASML的市场，这无疑也是ASML不愿意看到的情况

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我国光刻机发展历史

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综上所述，我国目前的国产光刻机整机交付的制造精度只有90纳米，对比高端光刻机还差得很远

不过，这已经达到了常用的光刻水平，对于一些低端芯片的生产已经够用了

中国能够整机交付的90纳米光刻机当然，困难只是一时的，我们会不断地努力下去，试图早早解决光刻机零部件难以自己生产的问题