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3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元，比今年（12亿美元）增加20倍以上

目前，三星电子是唯一一家宣布成功量产3纳米的企业

三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备，随着工程技术的发展，预计3纳米将成为核心先进工艺

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成

据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦

主要原因是因为光源，High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦，ASML还使用水冷铜线为其供电

上半年美国模拟芯片、射频芯片等企业纷纷表示库存高企，为了清理库存主动降价九成求售；到了下半年两大手机芯片企业联发科、高通、NVIDIA、AMD都陆续砍单，显示出芯片过剩的情况正向更多行业蔓延

随着这些芯片企业砍单，全球最大芯片代工厂台积电也开始受到影响，台积电开始关闭部分EUV光刻机并让部分员工休无薪假期，这意味着芯片供给过剩的情况开始影响到整条芯片产业链

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而近日，ASML方面又做出了新的计划，其表示将在2025年实现600台DUV的生产能力，但EUV光刻机只有90台，其高NA EUV光刻机，则是到2028年实现20台的产能，可以看到在产能上的对比强烈，DUV的产能是EUV的近七倍，是高NA EUV光刻机产能的至少30倍

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美国为ASML光刻机提供关键的光源 然而，荷兰ASML公司已经在一定程度上依赖中国的市场了

据该公司财报显示，中国大陆是其全球第三大市场，营收总额达27亿欧元，约占其2021年全球营业额的1/7

由于从4年前起，美国就一直要求荷兰禁止ASML向中国出售高端光刻机，导致中国早已订货的EUV一直被拒绝交货，这在一定程度上打乱了中国生产7纳米芯片的计划

要造反?ASML对华供应DUV光刻机显现曙光 欧盟荷兰反对频繁施压中国用口罩跟荷兰换光刻机

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中国激光不出光刻机

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正是由于EUV光刻机的高度复杂性，至今为止仅有ASML能生产出EUV光刻机，其他国家并无法生产出EUV光刻机，而且即使是诸多供应链企业提供了高度精密的元件，ASML同样需要投入大量技术人员研发相关的技术并对这些元件进行整合才能组装出一台光刻机

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日本光刻机生产企业

未来比 3nm 更先进的工艺，将极度依赖高 NA EUV 光刻机

芯片这东西，就是电子产品最核心的东西，放在汽车上等同于发动机，是一切的核心

随着科技的发展，手机也越来越先进，拥有的功能也越来越多，对于芯片要求也越来越高，芯片承载负荷也随着增高，所以就需要更强大的芯片

而制造芯片，一定要用到一个机器，那就是光刻机

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但是近三年以来，中国半导体产业在政策的扶持下可谓是进步神速，而上海微电子更是在光科技领域突破连连，甚至被ASML认为再需要5年就能够实现对于光刻机的破解

中国完备的产业链能够保证ASML的零件供应，这也是ASML跟美国摊牌的底气

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此前美国提出的每项举措，ASML都迅速紧紧跟随，美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机，ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付，今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机，ASML照单全收

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