无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求
终端市场推动了成熟制程的产品越来越多,比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等,成熟制程市场空间不断增长
不过有一个坏消息就是, 美国正在向ASML施压,希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国,而这相比于EUV极紫外光刻机,所造成的影响将更为严重
如此困难的技术要求,造成了光刻机极低的产量,光刻机技术基本十年才会大更新一次
为什么说不存在5nm的光刻机光刻机以光源的改变,共经历了5代的发展,以第四代浸没式光刻机来说,可以造28nm芯片,也可以造7nm芯片,说它是28nm光刻机也没毛病,说7nm光刻机也没错