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EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大，在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候，DUV光刻机量产自然就更没难度了

中国在光刻机技术方面的快速突破，已让ASML感到担忧，事实上此前在美国的诸多压力下，ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展，中国迟早能解决光刻机问题

近日国内光刻机产业链的企业之一，传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利，加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果，国产EUV光刻机已取得了重大进展，或许数年后国产EUV光刻机就将量产，这正让ASML后悔莫及

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就阿斯麦公司本身的情况看，DUV光刻机的出口，为其贡献了大部分营收

据统计，如果ASML不再向中国出口DUV光刻机，那么与之配套的一些光刻机及其零部件出口业务也将受到影响，综合预算每年将会损失20亿美元，这些钱美国当然不会补给ASML

事实上，现在ASML已经看到了其EUV光刻机在未来的销售会不乐观，先看台积电，首先是台积电已经取消了一座7纳米工厂，其现有7纳米生产线的利用率已经不到50%，也就是说，大量的EUV光刻机已经处于关机状态，其3纳米生产线至今闲置，而且还削减了大量产能，近日台积电更是表示没有计划在老美建设3纳米工厂的计划

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最先进的光刻机是几纳米

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之后理论上数值孔径还能够再提升，比如达到0.7等，但已经没太多必要了，非常不值得，因为成本太高了，难度太大，估计0.55NA就是顶点了

而0.55NA数值孔径的EUV光刻机，其处理极限可能也就是2nm、1.8nm左右，而INTEL也计划用它在2025年左右，量产2nm、1.8nm的芯片

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众所周知，在芯片制造中，光刻机是必不可少的设备

而7nm及以下的芯片芯片制造，EUV光刻机是必不可少的设备，而EUV光刻机仅ASML一家能够生产，所以一直以来ASML都是保持着自己的节奏，不多生产

这样EUV光刻机就是卖方市场，ASML说了算，三星、台积电、intel等厂商，要从ASML这里抢，才能够买到，价格还高高在上

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一、ASML对前景的担忧ASML拥有最先进的光刻机，这是它的核心竞争力，但是全球芯片行业已陷入衰退阶段，诸多芯片至企业都暂停了产能扩张计划，甚至连最大的芯片制造企业台积电都关闭了部分EUV光刻机，如此情况下ASML的光刻机就从此前的不愁卖到如今的难卖

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再有就是美国要求诸多盟国不要将先进芯片设备卖给中国的时候，美国芯片却由于面临业绩下滑而自去年以来申请许可给中国企业供货，高通为中国科技企业定制4G芯片，近期NVIDIA紧急为中国开发定制版GPU芯片A800，新思科技等也为中国企业开发定制版的EDA软件，显示出美国正试图独占中国市场

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国内有科技企业公布了EUV光刻机专利，热闹了几天，然而仔细想来，这专利恐怕对于中国光刻机产业影响有限，离量产依然很远，就如此前的石墨烯专利一样

EUV光刻机可谓是科技行业的皇冠，它集中了全球诸多科技的精华，ASML的EUV光刻机需要大约10万个零部件，由德国、美国、日本等诸多国家的大约5000家企业供应相关的元件，可见它的高度复杂性

近两个月来，老美在半导体领域的动作非常频繁，先是向韩、日、台施压，逼迫它们在规定的期限内加入“四方芯片联盟”，后又出台了527亿的《芯片和科技法案》，要求享受相应政策红利的企业，不能在我国新建、扩大晶圆厂

非常好，但刻录只有18速？，而且噪音很大，不过其他很好。不错的用来刻录CD机用的。很安静。没有噪音。稳定可靠。

荷兰ASML公司的一位高管也曾表示，EUV光刻机的研制难度非常大，部分零部件的调整，差不多要耗费十年的时间

以上两位行业大拿的话乍一听很夸张，但从ASML公司垄断EUV光刻机全部市场份额的结果来看，这二位说得并不夸张

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