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　　1961年，美国GCA公司制造出了第一台接触式光刻机

而一个广为流传的说法是，1966年，中科院下属109厂就与上海光学仪器厂协作，研制成功了我国第一台65型接触式光刻机

　　早期的光刻机复杂程度和照相机差不多，技术难度不高，所以大家的差距也没那么大

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70年代初，美日等国分别研制出接近式光刻机，而国内却一直停留在接触式光刻机

1977年，江苏吴县举行了全国性的光刻机座谈会，明确要改进光刻设备，尽快赶超世界先进水平

于是清华大学精密仪器系、中电科45所等先后投入研制更先进的光刻机

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IT之家 8 月 26 日消息，据彭博社报道，ASML 新一代 EUV 光刻机每台耗电约 1 百万瓦，约为前几代设备的 10 倍，依赖该设备生产芯片的三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大，芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石

彭博分析师 Charles Shum 预估，在 3 年内，台湾代工厂四分之一的芯片制造都需要 EUV 设备

业内人士指出，中国台湾有许多需要运行如此高耗能设备的芯片厂，使得可再生能源变得重要和紧迫，但台湾却严重依赖化石燃料

而更重要的是，芯片的前道工序非常重要，并且是几百种设备相互配合，而这些生产设备以国外的产品为主，所以国外的光刻机能够相互配合兼容，这是大家多年来合作的结果

而国产光刻机的也许能用，精度也达到了，但晶圆厂们一般情况下可不会冒险，在有国外的、能兼容匹配的国外设备可买的情况下，就不会买国产的，一旦出了问题，就损失惨重

如上图所示，去年全球一共售出478台前道光刻机，其中ASML拿下309台，占比为65%，日本厂商拿下169台，占比为35%