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物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学

出货光刻机迎来变数?果然ASML没那么好心

从某种程度上来说，ASML做到这种地步属实不易

因此，众人也觉得ASML对中国市场上颇为的好心

03.芯片自主替代踏上征程 作为一直跟在老美后面转悠的小弟，荷兰ASML之所以急着将刻光机寄到我国，有专家猜测是害怕中国芯片领域、自给自足的进程加快，会永久性失去我国芯片消费市场

数据显示，老美的不断修改规则和打压，却加速了我国芯片国产化的进程

读盘速度：读取速度挺快 读盘声音：很安静 稳定性能：兼容性好，win10免驱 产品包装：完美 外形外观：大方

ASML硬刚老美!首台光刻机送往中国:再不给就没戏了

你知道光刻机吗

如此情况下，这些芯片制造企业已不可能继续大规模采购EUV光刻机，对于更先进的High-NA EUV光刻机的采购也可能因此延期，毕竟市场需求不强的情况下，更先进的光刻机投资额巨大，会导致芯片制造企业承担巨大的风险

读盘速度：先锋存储名不虚传啊，原来用的也是先锋的，用了有10年，终于退休了 读盘声音：声音很小，几乎听不到 稳定性能：稳定性超强，刻录CD非常快，音质也超棒 轻薄程度：外置光驱吗，都一样薄厚，没有太厚的 外形外观：外观就是比原来的降了档次，原来的机器都是金属外壳，现在的是工程PVC的，更轻一些 产品包装：产品包装结实，原封装，没动过，全新

??先锋8倍速 USB2.0外置光驱DVD刻录机，连接笔记本电脑，质量可靠非常满意，刻录机很好，收到后就安装上，就刻了一张cD盘和一张D9盘，非常不错。

当地时间周五（11月25日），荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫尔表示，荷兰正与美国政府就关于向中国出口光刻机的新限制进行谈判

近年来，美国在对华政策上实行胁迫外交，多次施压其盟国限制如光刻机等高科技产品等出口

其中，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）因为在芯片行业中占据极其重要的地位，成了美国政府的重点“关照”对象，该公司占全球光刻机市场份额的60%以上

光驱收到了，非常好用，连续刻录了10张都成功了，先锋这个牌子还是值得信赖的。整体来说还是很不错的，店家服务态度很好，而且质量也很好，比前的华硕好用太多，开心

被美国彻底打醒!俄罗斯全力以赴研发7nm光刻机

产品包装：包装妥当，严实 稳定性能：稳定 读盘声音：较小 外形外观：小巧 轻薄程度：轻薄 读盘速度：很快 先锋不愧是光驱第一品牌，以前用过先锋的CD刻录机，从没有废盘，刻录质量杠杠的！

读盘声音：声音小 轻薄程度：比较有质感 外形外观：质量看着很好 产品包装：包装完美 读盘速度：运行快 稳定性能：特别稳定

在与中国的贸易中，阿斯麦目前只供应了技术相对低一档次的DUV（深紫外线光刻机），该设备瞄准的是工艺技术在7纳米以上芯片的制造，覆盖了目前市场上大部分成熟制程的芯片，而中国也是阿斯麦DUV光刻机的最大客户之一

阿斯麦公司在尖端芯片制造设备市场占据主导地位，占全球光刻机市场60%的份额，也是全球唯一一家能够供应7纳米以下芯片所需EUV光刻机的公司

至于EUV（极紫外线光刻机），由于美国率先完成了该设备的原型设计和技术积累，阿斯麦EUV光刻机的技术和零部件主要来自于美国

至于佳能，尼康，则主要集中在最低端的还有UV（i-line）光刻机领域，在次高端的DUV领域，都表现一般

至于国产光刻机，虽然可以用于90nm，但其实晶圆厂们用得非常少，并且主要不是用于前道，也就是晶圆制造这一块，更多是用于后道，比如封测等领域

稳定性能：很好 读盘速度：很好 外形外观：很好 轻薄程度：很好 读盘声音：很好 产品包装：很好

ASML 公告还透露，公司的 EUV 高 NA 业务中，已收到了来自供应商的第一台高 NA 机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台

这些模块将用于初始测试和集成，这是 EXE:5000 程序的重要一步

此前据 BusinessKorea 报道，三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径（High-NA）EUV 光刻设备达成了协议

ASML 下一代 EUV 光刻机启动:单价 26 亿元

中国高端光刻机新进展

京东效率很高，凌晨拍的，当天就到，刻录效果很好，刻了几张，都没问题，超薄设计，外形炫酷，刻录速度快。

当前的EUV光刻机技术是通过将镜头放在液体里，通过液体和镜头等的多重折射最终打印出更小的结构，从而制造更先进的工艺，然而这种方式随着向更先进的工艺推进，这种方式导致光刻机日益笨重，光刻机自身的成本也因此激增，第一代EUV光刻机的价格达到1.2亿美元，预计High-NA EUV光刻机售价将达到4亿美元

读盘速度：快 读盘声音：不大 稳定性能：稳定 轻薄程度：标准 外形外观：好 产品包装：很好

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

读盘速度：读盘快速读盘声音：安静稳定性能：非常稳定外形外观：外观不错，即插即用，方便，静音，做工精良。很实用

在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机