滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

在先进晶圆厂，28纳米以下的逻辑芯片制程，其所需要的EUV曝光数量随节点的迭代而逐渐增加，所以节点越先进，EUV光刻机所需数量越多

所以，28纳米以下的高级逻辑芯片，其光刻设备的投资额度，将随着逻辑节点的代差，指数级增加

读盘速度：读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定！ 读盘声音：静音效果好，不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能：支持UHD 的4K蓝光盘读写！这点非常棒，是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好，连续读写不降速。 轻薄程度：正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观：外观漂亮，新款带类钢琴烤漆面的一体式面板，比老款好看很多。 产品包装：包装精致，不知道是不是因为是国内总代的关系，所有一次性封贴都是索厉的。

先锋的刻录机确实很稳定，效果也很好，已经用了好几个了，又买了一个感觉，确实不错。小巧玲珑，播放翻录效果都好，很安静，刻录还没用暂不需要，是一款超赞的小光驱！拍照为证。

读盘速度：速度快。 读盘声音：声音小。刻录声音也不大。 稳定性能：性能稳定。 产品包装：包装很好。

中国古语有云~~~杀鸡取卵，饮鸩止渴，就是指得这个“弯道超车”呀

逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点的光刻机需要投资比例到了7纳米以下，先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加：1，5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%；2，3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%；3，2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%

在先进晶圆厂，28纳米以下的逻辑芯片制程，其所需要的EUV曝光数量随节点的迭代而逐渐增加，所以节点越先进，EUV光刻机所需数量越多

所以，28纳米以下的高级逻辑芯片，其光刻设备的投资额度，将随着逻辑节点的代差，指数级增加

比如，7纳米逻辑芯片晶圆厂的光刻机投资中：1，干式DUV光刻机的投资比例是10%,；2，浸没式DUV光刻机的投资比例大约是50,；3，数值孔径NA0.33的第一代EUV光刻机的比例是40%

当然，到了2纳米节点以下，有需要引入更加昂贵的第二代高NA0.55 EUV光刻机，这意味着2纳米逻辑节点以下，晶圆厂的EUV光刻机投资总额进一步增加

在先进晶圆厂，28纳米以下的逻辑芯片制程，其所需要的EUV曝光数量随节点的迭代而逐渐增加，所以节点越先进，EUV光刻机所需数量越多