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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机人类精华,极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年

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光刻机人类精华

编者按:公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻,可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差,有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

光刻机人类精华,极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年

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