滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

当时就有国外工程师直言道，即使给你们全套光刻机图纸，你们也做不出来光刻机

这句话一方面说明了光刻机的制造难度之在，想让我们知难而退

另一方面也透露出了对我们研发光刻机的轻蔑态度，认为我们根本不可能做出难度那么大的光刻机

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如上图所示，去年全球一共售出478台前道光刻机，其中ASML拿下309台，占比为65%，日本厂商拿下169台，占比为35%

而中国厂商的份额为0

再看看5种分类，可以看到EUV光刻机是ASML独占100%，而DUV中，精度更高的ArFi、ArF Dry均是ASML说了算，占比分别96%、88%

大家都知道光刻机是芯片制造过程中，最重要的设备之一

但大家不清楚的是，光刻机也分前道光刻机，后道光刻机两种

前道光刻机，主要是指将芯片电路图，光刻到硅晶圆上的光刻机，也就是芯片制造的前道工序号需要的光刻机，也称之为前道光刻机，其中又分EUV光刻机、DUV光刻机，UV（i-line）光刻机

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所以其它厂商有一个非常大的机会，那就是搞定EUV光刻机，然后卖给中国，那会是巨大的市场

不过，要掌握EUV光刻机技术，可不容易，因为ASML造EUV光刻机，是整合了全球的技术，美国的光源、德国的镜片、英国的真空腔，可以说是举全球之力完成的

佳能近日表示，接下来会研发新一代的NIL光刻机，新一代的NIL光刻机，有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺

ASML表示，他们计划将产能增加到 90 个 EUV 和 600 个 DUV 系统（2025-2026 年），同时还将 High-NA EUV 产能增加到 20 个系统（2027-2028 年）

与2021年42套EUV系统销量相比，相当于EUV光刻机产能直接增加210%+了，这应该是ASML拿出来的最大诚意了

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物流超快哒，谢谢快递小哥。这个光驱主要是偶尔按照驱动或者系统用的，运行声音略大，但是读取速度很快。按照我的使用定位来说，性较比最好的一款

半导体设备主要由七大设备零部件构成：光刻设备、刻蚀设备、清洗设备、薄膜沉积设备、离子注入设备、机械抛光设备及封装、测试设备

所以到目前为止，全世界也仅仅只有两个国家掌握了技术，制造光刻机的困于多方面，在研制的投入上以及本身技术的要求都非常高，所以它比原子弹还要稀有，也可以理解，但是这两个毕竟是不同领域的东西，将他们相提并论虽然有一定的共通性，但是差别还是比较大

在长期的发展当中，原子弹可以说是非常进行研制的，但现在还有一些技术比原子弹还要稀有

目前来说，只有两个国家掌握了它的技术，那么，这究竟是什么呢？现在的发展当中，有一个东西不可忽略，那就是芯片的制造

而这个比原子弹还要稀有

美国禁止向中国出售EUV光刻机

众所周知，中国研究光刻机几十年，研究进展缓慢，那么光刻机是什么东西，为什么这么难呢？光刻机在国际上属于尖端科技，国际上在光电领域荷兰知名企业ASML（阿斯麦）一直处于垄断地位，一台光刻机的售价高达八亿，而且还是供不应求，由于美国限制对中国出售高科技产品，中国购买一台光刻机，竟然几年时间还没交货

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读盘速度：速度快。 读盘声音：声音小。刻录声音也不大。 稳定性能：性能稳定。 产品包装：包装很好。

显然，在未来荷兰方面就不得不为老美所提出来的“安全问题”进行考虑，那么等到下个月新协议公布的时候，或许对于我们来说并不是一个值得期待的好消息

指望荷兰官方和 ASML 作出更大让步的可能性不大

中国市场贡献了 ASML 15% 左右的营收，如果禁令范围继续扩大至低阶一些的深紫外（DUV）光刻机，客户们会转而投向尼康、佳能等日系厂商

不过在一切尘埃落定前，中国晶圆厂们已经在趁着还能买时尽量多囤货

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