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中国作为目前世界上的第二大经济体，在很多高精尖领域都引领着技术的发展，但有一样象征着工业强国的科技产品，我国始终无法完成自产，这就是EUV光刻机

   光刻机的含金量目前全世界能够制造EUV光刻机的国家只有两个，荷兰和日本

光刻机的技术难点先进光刻机制造的第一个难点就是机器的光源问题，在EUV光刻机问世以前，DUV光刻机是世界的主流，二者最大不同在与将DUV上193纳米的短波紫外线改为了13.5纳米的极紫外线，光刻机精度取得了跨越式发展

相信品牌！机子看起来很简约，耐看，用起来也非常好用！店家快递很快，包装也很好，光驱还没用呢，看着无划痕，新品应该是！等用上再看看

我们国家在4年前，曾经研制出一种特别的光刻机，但是很少有人知道，它的名字叫超分辨率光刻机，这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm以下的工艺制程

在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工

可实现22纳米工艺制程

宝贝收到了，真心超值划算，值得一试，物流这么给力，大家可以放心购买哦！京东商城商品越来越丰富，自有物流配送很快！越来越好，相信品牌的力量！

读盘速度：17首歌大约15分钟内录完.还是挺快的。 读盘声音：声音很轻，完全能接受。 稳定性能：昨天收到后只用一次，中间没出故障。以后再观察一下。 轻薄程度：小巧玲珑，很轻。拿取方便。 外形外观：黑色的，做工精致，细腻，棱角处处理的很优雅。总体很美观。 产品包装：包装盒里边有专用泡沫塑料夹层固定，牢固又防震。而且包装盒也漂亮。

光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能

ASML 光刻系统的发展一直是通过减少波长和增加数值孔径来进行演进

目前，ASML 的主力产品是 0.33NA EUV 光刻机，并正在大批量生产中

对于 0.33 NA 系统，ASML 正致力于通过增加吞吐量和降低总能量来减少每次曝光所需的能量

在今年 6 月 17 日举行的技术研讨会上，台积电研发高级副总裁米玉杰表示：“展望未来，台积电将在 2024 年引入高数值孔径的极紫外（高 NA EUV）光刻机，为的是开发客户所需相关基础设施和模式解决方案，进一步推动创新

挺不错的，物美价廉到货快，之前在京东买过两台同款的，确实很不错，这次趁活动再买三台囤着备用，还未启用。虽然说CD DVD刻录技术早已成熟，然而自从以前的先锋115CH刻录速度变慢以后（没飞过盘，只是刻录速度变慢），实体店买过两台某星的，那真是一塌糊涂，各种飞盘，刻录出来的数据面颜色都不均匀，也很难读取，没用几次就弃用了。之后看到京东自营有先锋的了，就买回先锋的，就这款，刻录声音很小，出盘的质量很高。虽然价格比以前便宜了，但质量确实没有缩水，这里面可能也是存在一点黑科技的。挺好的，应该还会再买。

他们不想让中国获得先进的科学技术，在反对中国获得荷兰ASML公司生产的先进光刻机的国家当中，以美国为甚，妄想通过封锁来遏制中国国产光刻机的发展，所以ASML在这种压力下只能卖给中国一些普通光刻机

结语虽然ASML的零件供应商，大多阻挠出口给中国光刻机，但是面对巨大的中国市场，所以ASML坚持和中国做光刻机方面的买卖生意

先锋刻录机很好，上一个用了7年多才坏，现在换一个新的。很好用，读取速度很快，不愧是大牌子！

之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，

我们国家在4年前，曾经研制出一种特别的光刻机，但是很少有人知道，它的名字叫超分辨率光刻机，这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程，通过多重曝光等手段，还可以实现10nm以下的工艺制程

在此基础上，项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺，未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工

还没安装，连电测试了一下没问题。这两天装起来试试。工作需要刻盘，先锋算是光驱里边老牌子了，希望可以好用一点，用久一点。总之不错，很满意。

据悉，洁净室项目累计投资120亿，目的是为了实现功率半导体芯片国产化

功率半导体又被称为“电动车心脏”，目前我国新能源正高速发展，如在核心技术实现国产化，未来有机会成该领域领军者

ASML认清这一局势，和美芯巨头一样，ASML也表示，“再不出口就没戏了，我们离不开中国市场”

专门买的工作用，日常家用主机很少会选装了。首先国庆假期物流同样很快，然后商品包装完好，货是全新的，这次购物很满意

很好，经过测试质量很好，刻录光盘很快。刻录稳定，一直很多年都在用先锋的，没有问题！非常满意

比如清华大学的徐端颐团队，成立之初多达数百人，有技术超群的钳工、搞精密机械加工的师傅，还有搞计算机控制的技术工人，但是没有一个人懂光刻机，徐端颐团队研制新设备，全部图纸都要自己设计，全部零部件都是自己加工制造，一切从零开始，边干边学

而此时国内刚刚启动193nm光刻机项目，落后国际水平20多年

经过5年的艰苦追赶，终于在2007年，上海微电子宣布研制出90nm光刻机

但是由于元器件大部分来自国外，西方立刻实行了禁运，导致无法量产

2008年，“02专项”启动，继续攻关，主攻高端光刻机技术，同时鉴于之前的教训，“02专项”的重点，还有提升材料和工艺等产业配套能力

例如，该光刻机已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平

制造的相关器件已在中国航天科技集团公司第八研究院、电子科技大学太赫兹科学技术研究中心、四川大学华西医院、中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室等多家科研院所和高校的重大研究任务中取得应用

读盘速度：很好 读盘声音：无声 稳定性能：俱佳 产品包装：完好 外形外观：无损 轻薄程度：满意