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蔡司光刻机镜头是人工打磨的吗
2012年,中国科学院光电技术研究所承担了超分辨光刻装备的研制任务,经过近7年艰苦攻关,在无国外成熟经验可借鉴的情况下,突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米