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面对美国芯片的做法，ASML当然不会坐视，ASML和它所在的荷兰都表示ASML是一家欧洲企业，理应有自由出货的权力，不应完全遵从美国的要求，近期更传出荷兰已在与美国谈判，希望让ASML获得自由出货的权利，毕竟ASML已是荷兰有限的几家具有国际竞争力的企业，对荷兰经济具有重要影响

先是美国芯片企业美光已研发绕开EUV光刻机的1β工艺，这项工艺比采用EUV光刻机降低了六成的成本，存储密度、功耗等指标也更优秀

更让ASML忧心的是全球芯片行业的变化，全球芯片行业已从过去两年的火热迅速陷入冰点，最大的EUV光刻机采购客户台积电已关闭部分EUV光刻机，甚至还将部分EUV光刻机从中国台湾转运至美国的5nm工厂

值得一提的是，ASML公司多次示好中国市场，且先后在国内建立了14个办事处、2个研发中心、1个维修中心以及11个物流中心，且还多次表示要扩招中国员工

目前ASML公司的中国员工数已经突破了1500人

那么问题来了，ASML公司对美态度强硬，难道不怕被“卡脖”吗？在笔者看来，老美之所以没有直接修改芯片规则，限制ASML公司的DUV光刻机供应，而是选择用劝说或者通知的方式，就是抱着“试一试”的态度

周杰伦 - 安静 (2009香港红磡周杰伦演唱会).mp32:26来自大熊聊数码都知道，要制造先进制程芯片，就必须要使用EUV光刻机

据报道，中国台湾 2016 年制定一个目标，到了 2025 年，其中 20% 电力来自可再生能源

然而，从 7 月的最新能源审查显示，截至 2021 年底，只有 6% 电力来自可再生能源，促使其下调 2025 年的目标至 15%

报道称，台积电拥有业界最多的 80 台 EUV 设备，而且正在安装新一代设备，是吃电大户，预计 2025 年将占中国台湾省整体能源消耗的 12.5%，较 2020 年的 6% 高一倍还多

除了台积电外，美光在中国台湾也使用至少一种 EUV 设备

美媒:美国再施压荷兰禁止对华出口光刻机

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ASML公司发言人就有关消息回应称，“这种讨论并不新鲜

”报道提到，ASML是全球最大的光刻系统制造商，光刻机是半导体制造过程中的关键设备

很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了

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逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点的光刻机需要投资比例到了7纳米以下，先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加：1，5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%；2，3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%；3，2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%

要知道我们仅仅能够采购DUV光刻机就占到了如此高的份额，如果EUV光刻机也能够销售的话，那么对于ASML将是一个无法忽视的巨大市场

但如果连DUV光刻机也无法销售，那么ASML同样也将失去这个市场

同时也会促使国内的光刻机厂商加速研发来摆脱禁售的控制，一旦上下齐心完成了对光刻机的攻关，那么ASML也将不再被需要，甚至还会在全球抢夺ASML的市场，这无疑也是ASML不愿意看到的情况

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早前中国一家企业就被媒体报道已筹建全球第一条光子芯片生产线，预计最快在明年量产，一旦光子芯片实现商用，那将彻底革新当下的芯片技术，光子芯片的性能比硅基芯片高1000倍，功耗则只有硅基芯片的千分之一，具有广阔的应用前景

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用起来方便，装好也完美，很契合原机。比较轻薄啊，很轻，读盘性能可以，等着试试刻录

其次是美国光刻机企业Zyvex公司研发电子束光刻机，绕开了ASML的EUV光刻机，并且将先进工艺提升到0.768纳米，打破了ASML尚未量产的第二代EUV光刻机的极限，为芯片制造开辟了新的道路，如此一来美国芯片企业未来很可能不再采购ASML的EUV光刻机

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目前最先进的光刻机分为两种:EUV（极紫外光）和DUV光刻机（深紫外光），极紫外光刻机的波长是13.5nm，而合理制程为3-7nm，光刻机最重要的是投影就是通过光将电路图案通过镜片放大投影到硅片上（跟平常上课用的投影仪一样），但是极紫外光很难获取到，要通过特殊的手段，首先是光源，极紫外光在电磁波光谱中属于短波，在光刻机中使用193nm的光源变成13.5nm的光源，一直困扰科学家多年，直到一位科学家提出通过击打锡滴来获取更短的波长，但是由于光刻机的光源通过各种反光镜的传输，实际收到的光源强度只有2％，所以有科学家提出击打两次来提高光强

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