滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

不过美国可不想看到这情况，于是便利用政治手段，试图切断中国与阿斯麦之间的正常生意往来

而美国同时还对本国企业进行限制，更是出台法案禁止美国企业向中国出售部分芯片

不过中国这么庞大的市场，这么大一块蛋糕，作为商人肯定不会就此放弃

非常好，读碟很快，刻录速度快也很稳定，送货神速。好评！先锋刻录机，装进去马上能用。老品牌值得信赖！和我的酷冷至尊机箱很匹配。

刻录机非常好，读写静音极佳，刻盘质量极佳，是我用过的最好刻录机，质量也非常过硬，下次一定在来买。

读写速度快，很好用，读写速度快，质量好，价格实惠，物流快，非常满意的一次购物。

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

先锋的老牌子，质量好，很厚实，韧性好，不易破，耐用。读盘速度：快稳定性能：非常好轻薄程度：薄外形外观：好 精挑细选的。安装上了，很好

购买京东的产品有很多次了。这次购买的刻录机，质量非常好。刻录效果也不错。跟以往买的东西基本差不多。 先锋的客户机跟其他的相比，一是质量非常过硬。我用的时候，基本上没有磕坏过。第二是稳定性很好。每次都是一样的效果。京东的产品都是正品。发货速度快。价格也优惠，特别是出现问题的时候，可以很方便的解决，真正做到了一个大企业应该有的样子。 我是评价官，希望我的评价对你有所帮助。谢谢，也希望我的评价能够成为优质评价。

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此前美国提出的每项举措，ASML都迅速紧紧跟随，美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机，ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付，今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机，ASML照单全收

读盘速度：很快，关键是稳，8倍速，蓝光的 读盘声音：声音很轻，可以说用细微来形容 稳定性能：8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度：很轻薄，很便携，非常好 外形外观：小巧，低奢而大气 产品包装：产品的包装很好，两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空，极大地避免了震动！

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

读盘速度：很快，关键是稳，8倍速，蓝光的 读盘声音：声音很轻，可以说用细微来形容 稳定性能：8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度：很轻薄，很便携，非常好 外形外观：小巧，低奢而大气 产品包装：产品的包装很好，两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空，极大地避免了震动！

他们不想让中国获得先进的科学技术，在反对中国获得荷兰ASML公司生产的先进光刻机的国家当中，以美国为甚，妄想通过封锁来遏制中国国产光刻机的发展，所以ASML在这种压力下只能卖给中国一些普通光刻机

结语虽然ASML的零件供应商，大多阻挠出口给中国光刻机，但是面对巨大的中国市场，所以ASML坚持和中国做光刻机方面的买卖生意

先锋刻录机很好，上一个用了7年多才坏，现在换一个新的。很好用，读取速度很快，不愧是大牌子！

之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，

ASML还因此发出警告称：“如果不能出货，会导致全球供应链中断

”道理大家都明白，只是ASML的警告美国能不能听得进去就不得而知了

实际来看，美国正处于“装睡”的状态，对外界的劝诫声音充耳不闻

还进一步想要让荷兰与自己站在一起，把DUV光刻机也加入到限制出货的范畴中

也正因为如此，荷兰才会力争光刻机出货

不仅是因为技术可控性的原因，也在于DUV光刻机是ASML维持中国大陆市场运营的重要保障

目前中国大陆是ASML第三大市场，ASML不希望失去中国大陆市场的支持

也正因为光刻机技术差距大，所以目前光刻机是禁运的，比如EUV光刻机美国就不准ASML卖到中国大陆来，为的就是阻止我们进入到7nm

前段时间还传出美国要对14nm及以下的设备下手，实行禁运，原因就是国内的设备，能够实现14nm以下节点不多，更多的还处于14nm、28nm阶段

事实上，刻蚀机之前也是被美国禁运的，但随着中微公司的先进刻蚀机后，禁运也就没意义了，于是放开了市场，中国厂商可以随便买

而技术相对落后的则是光刻机了，目前上海微电子生产的光刻机，其标注的精度还在90nm

不错，很好，喜欢?，给力?，哈哈?果然是大牌子，质量很好，声音安静，读取刻录都很顺畅

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

和美国远离EUV

根据ASML的2022年第一季度财报显示，在一到四月ASML向国内出售了23台光刻机并创下了新的销售记录

目前国内也是全球仅有的已经大规模恢复生产秩序的国家，从数据统计可以看到，2021年度芯片制造产量同比增长33.3%，这也意味着国内芯片的制造生产能力正在稳步提升

其中EUV极紫外光源由中科院长春光机所负责技术攻关；光刻机双工件台系统由清华大学/华卓精科负责技术攻关；高NA浸没光学系统由长春国科精密光学负责技术攻关；EUV光刻胶由中国科学院化学研究所/中国科学院理化技术研究所联合攻关研发