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读写速度快,很好用,读写速度快,质量好,价格实惠,物流快,非常满意的一次购物。
据称,目前国内正在研发28nm精度的光刻机,那么经过2次曝光后,能够达到14nm,然后可以尝试性的进行第三次曝光,然后有可能迈入7nm
当然,以上只是猜测,因为精度越高的光刻机,多次曝光的难度也就越高了,一切还得看真机的实测才行
先锋的老牌子,质量好,很厚实,韧性好,不易破,耐用。读盘速度:快稳定性能:非常好轻薄程度:薄外形外观:好 精挑细选的。安装上了,很好
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前道光刻机对光刻机的精度要求非常高,所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面,自然ASML是老大,毕竟EUV光刻机,只有ASML能够生产,而国内自研的前道光刻机,分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光,然后就实现了11nm,再进行第5次曝光,然后实现10nm以下呢?理论上可以,但实际不行
能生产几纳米的芯片?答案或是22nm
携带方便功能强很好用,读碟广泛很好的刻录机。读盘声音:小产品包装:严实稳定性能:稳定外形外观:好读盘速度:很快轻薄程度:适中
这款自营的先锋刻录机最新升级版本,24倍的刻录速度。先锋的刻录机质量还不错,以前经常使用先锋的刻录机,机器性能稳定耐用,这次帮朋友选刻录机,正好看到京东这款升级版的刻录机,果断下单拿下。京东自营的产品送货速度很快,自营的产品质量还是有保障的,五分好评!
国内拥有3台光刻机的公司
在测试中,进行到第三次曝光时,晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值,甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光,估计良率会低到离谱,至于第五次、第六次,根本不用想了,良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机,一般最多也只进行两次曝光,很少进行多次曝光,因为会大幅度的降低良率,造成成本上升,这是得不偿失的
在芯片制造的过程中,其它是需要两种光刻机的,一种是前道光刻机,就是将光掩膜板上的电路图,记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机,因为这是前道工序,所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机,用于芯片后期的封装,在芯片制造过程中,属于后道工序,所以叫后道光刻机
那么问题就来了, 国产90nm的前道光刻机,究竟能够生产几纳米的芯片,是不是就只能是90nm了?事实上并不是的,在一些晶圆厂的实际测试中,在精度方面,90nm肯定没问题的,同时经过两次曝光,可以得到45nm的芯片,三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
读盘速度:很快,关键是稳,8倍速,蓝光的 读盘声音:声音很轻,可以说用细微来形容 稳定性能:8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度:很轻薄,很便携,非常好 外形外观:小巧,低奢而大气 产品包装:产品的包装很好,两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空,极大地避免了震动!